Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS II Poly #293820235 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS II Poly est un graveur et asher utilisé dans une variété de procédés de fabrication de semi-conducteurs. C'est un outil de pointe qui combine la technologie de gravure chimique humide et la technologie de gravure résistive sèche pour améliorer l'efficacité et le rendement des procédés. AMAT Centura DPS II Poly etcher/asher peut être utilisé dans les étapes de procédé RIE (gravure ionique réactive) et DRIE (gravure ionique réactive profonde). Il est capable de traiter des plaquettes avec une gamme de tailles allant jusqu'à 8 "et avec une variété de matériaux de substrat dont le silicium, l'arséniure de gallium, le nitrure de gallium et d'autres matériaux III-V et II-VI. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DPS II Poly etcher/asher est équipé de caractéristiques avancées, y compris une source de plasma optimale, mandrin électrostatique, contrôle de la température de la plaquette avec deux zones de température, une serrure de charge non invasive, un réservoir de recirculation de deux wand, et un générateur de forme à distance. La source de plasma optimale permet aux utilisateurs de surveiller et d'ajuster les paramètres plasmatiques pour améliorer l'efficacité et le rendement du procédé. Le mandrin électrostatique offre une planéité précise et fiable pour assurer des résultats de gravure uniformes. La fonction de régulation de la température de la plaquette utilise deux zones de température pour assurer l'uniformité de température au sein de la chambre de gravure, favorisant ainsi une meilleure uniformité et répétabilité de gravure. La serrure de charge non invasive aide à réduire la contamination de l'intérieur de la chambre d'enlèvement des graveurs, ainsi que la production de particules et la contamination croisée entre les étapes du processus. Le réservoir de recirculation de deux wand permet aux utilisateurs de maintenir le bain de procédé à une température optimisée pour de meilleurs résultats de gravure. Enfin, le générateur de forme à distance permet aux utilisateurs de générer rapidement la géométrie de motif souhaitée, assurant un niveau de contrôle supplémentaire sur le processus de gravure. En résumé, Centura DPS II Poly etcher/asher est un outil de haute performance qui fournit des fonctionnalités avancées qui permettent aux utilisateurs de graver une variété de tailles de plaquettes et de matériaux pour améliorer l'efficacité et le rendement du processus. Sa source de plasma optimale, son mandrin électrostatique, le contrôle de la température de la plaquette avec deux zones de température, une serrure de charge non invasive, un réservoir de recirculation de deux wand, et un générateur de forme à distance fournit aux utilisateurs les outils pour effectuer des étapes de gravure et de cueillette précises en toute confiance.