Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura DPS2 #293821388 à vendre en France

ID: 293821388
Style Vintage: 2008
Etcher 2008 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS2 est un équipement de pointe de graveur/asher à plasma conçu pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs. Cet outil joue un rôle critique dans la fabrication de circuits intégrés en enlevant sélectivement des couches de matériau des plaquettes semi-conductrices pour créer les motifs et structures complexes nécessaires aux dispositifs électroniques. AMAT Centura DPS2 est un système très polyvalent et fiable qui offre un contrôle de processus supérieur, un débit élevé et une uniformité exceptionnelle, ce qui en fait un atout essentiel dans l'industrie des semi-conducteurs. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura DPS2 dispose d'une source de plasma à double fréquence RF et d'une chambre à vide haute capable de manipuler des plaquettes jusqu'à 300mm. L'unité est équipée de capacités avancées de surveillance et de contrôle des processus, permettant un réglage précis des recettes de gravure ou de cendres pour atteindre les taux d'enlèvement de matière désirés et la sélectivité. La machine intègre également un outil de manutention des plaquettes de haute précision pour assurer un alignement et un positionnement précis pendant le traitement, minimisant ainsi la variabilité et améliorant les performances globales du dispositif. L'un des principaux atouts de Centura DPS2 est sa capacité à effectuer un large éventail de processus à base de plasma, y compris la gravure sèche, le dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD), et à résister au strippage. L'actif peut accueillir différents types de matériaux, dont le silicium, le dioxyde de silicium, le nitrure de silicium, les métaux et les diélectriques, ce qui le rend adapté à une gamme variée d'applications de semi-conducteurs. Avec sa flexibilité et son évolutivité, AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS2 est bien adapté aux activités de recherche et développement ainsi qu'aux environnements de production à haut volume. AMAT Centura DPS2 utilise des systèmes avancés de distribution de gaz, des alimentations RF et des unités de régulation de la température pour optimiser la production de plasma et améliorer l'uniformité des processus sur l'ensemble de la plaquette. Le modèle offre une gamme de paramètres de processus, tels que les débits de gaz, les rapports de mélange de gaz, la pression de la chambre et les niveaux de puissance RF, qui peuvent être ajustés finement pour répondre aux exigences spécifiques de chaque étape de procédé. Ce niveau de contrôle assure des résultats cohérents et reproductibles, conduisant à des rendements de produits plus élevés et des performances de l'appareil améliorées. En plus de ses performances exceptionnelles, APPLIED MATERIALS Centura DPS2 est conçu avec des interfaces logicielles conviviales et des outils de diagnostic pour faciliter le fonctionnement des équipements, le développement de recettes et les activités de maintenance. Le système intègre des fonctionnalités d'automatisation avancées pour la gestion des recettes, la surveillance des processus et la détection des défauts, permettant aux fabricants de semi-conducteurs de rationaliser leurs flux de travail et d'accroître l'efficacité opérationnelle. Centura DPS2 est également équipé de dispositifs de sécurité complets pour protéger les opérateurs et prévenir les risques potentiels pendant l'exploitation de l'unité. Dans l'ensemble, AMAT/APPLIED MATERIALS Centura DPS2 est une machine de pointe de graveur/asher plasma qui offre une flexibilité de procédé, une fiabilité et des performances inégalées pour les applications de fabrication de semi-conducteurs. Grâce à ses capacités avancées et à sa conception sophistiquée, AMAT Centura DPS2 est un outil indispensable pour satisfaire aux exigences rigoureuses des dispositifs semi-conducteurs modernes et rester compétitif dans l'industrie des semi-conducteurs en constante évolution.
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