Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Centura MxP+ Super-E #9293833 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS Centura MxP+ Super-E
ID: 9293833
Dry etcher Parallel plate type: RIE.
MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Centura MxP + Super-E Etcher/Asher est un équipement de gravure humide de pointe et de précision conçu pour la production à haut débit de dispositifs opto-électroniques et semi-conducteurs. Le système utilise une séquence de conditions de processus pour fournir des taux de gravure élevés avec une excellente lisse de surface et sélectivité. Les caractéristiques de l'AMAT Centura MxP + Super-E comprennent un rotateur de substrat à vitesse variable, des chambres de traitement à haute température et une plate-forme de régulation de température multi-zones. La gestion thermique automatisée optimise l'uniformité des gravures, et plusieurs réservoirs indépendants permettent la gravure en plusieurs étapes. L'unité offre un contrôle précis de la température, un contrôle précis du processus, des paramètres de processus reproductibles et une stricte conformité environnementale. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Centura MxP + Super-E dispose d'un design avancé de mandrin de plaquette qui est compatible avec une large gamme de substrats, y compris les matériaux Si et III-V. Le mandrin peut être chauffé jusqu'à 950 ° C pour la gravure d'oxyde, et les paramètres de chauffage précis sont étroitement contrôlés pour l'uniformité de gravure, le débit plus élevé, les taux de rejet plus faibles et les rendements améliorés. Le générateur d'Enerjector™ RF puissant offre le niveau précis de contrôlabilité et permet la commande du processus précise en accordant la gravure à l'eau forte des paramètres. Centura MxP + Super-E offre une gravure humide rentable et répond à des exigences de rendement, d'uniformité et de sélectivité difficiles. Il peut également être configuré pour des configurations multi-modules pour augmenter le débit et gérer plusieurs tailles de plaquettes. La machine fournit également une large gamme de produits chimiques et de profils de gravure reproductibles. Il dispose d'une uniformité de wafer à wafer automatisée et d'un moniteur de processus qui peut être utilisé pour surveiller le processus de gravure en temps réel. Cela garantit des résultats cohérents et aide à satisfaire aux normes de qualité les plus élevées.
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