Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Chamber for Centris SYM3 Poly #293659650 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Chamber for Centris SYM3 Poly est un graveur/asher qui a été spécialement conçu pour traiter la gravure-retour/bande, combler les lacunes et planter des vias et des contacts à haut rapport d'aspect dans une variété de substrats, y compris Si, SiGe, SiC et GaAs. Il est équipé de deux chambres indépendantes pour le contrôle complet du processus, permettant à la fois la gravure et la bande sur la même plaquette. La chambre peut supporter des plaquettes de 10 ou 12 pouces, ce qui la rend compatible avec les tailles de plaquettes les plus courantes utilisées dans le processus de fabrication des circuits intégrés (IC). AMAT Chamber for Centris SYM3 Poly est équipé d'un système automatisé de contrôle des processus conçu pour optimiser les rendements des processus et les temps de cycle. Il offre une grande uniformité et reproductibilité des processus, tout en permettant un contrôle de la qualité et des retours en temps réel. L'interface utilisateur de la chambre est conçue pour la facilité d'utilisation et l'optimisation des processus. Il offre une configuration rapide de la recette, un ajustement de la recette en temps réel et une capacité de surveillance de la recette. De plus, la chambre est capable d'effectuer des contrôles d'uniformité avant et pendant le processus pour assurer des rendements et un débit élevés. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Chambre pour Centris SYM3 Poly est équipée de plusieurs fonctionnalités pour améliorer la qualité des processus, y compris une conception de chauffe-gaz chaud pour améliorer les contacts et les remplissages d'espace, ainsi qu'un système d'interférométrie laser pour les mesures de hauteur. La chambre offre également plusieurs options de gestion du débit de gaz et de contrôle de la pression pour permettre des recettes avancées de décapage et de remplissage. Chambre pour Centris SYM3 Poly est conçu pour fournir des processus de haute précision pour soutenir le développement des IC de prochaine génération. Cette chambre ultramoderne offre des performances de procédé optimales, une flexibilité utilisateur et des rendements améliorés. Associé à des paramètres de traitement précis et à un environnement de traitement propre, ce graveur/asher est capable de produire des résultats de pointe pour la plupart des exigences de fabrication IC.