Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS DPS II AE G3 #9152529 à vendre en France
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ID: 9152529
Poly etcher, 12"
(3) Process chambers & AXIOM
Factory interface:
Front end PC type: 4.0 FEPC
FIC PC Type: CPCI
(3) Load ports
A3 Type: Atmospheric robot KAWASAKI single fixed robot
Side storage: Right and left
Mainframe:
IPUP Type: ALCATEL A100L
Gas panel type: Standard
VHP Robot: Dual blade
MF PC Type: CL7
Chamber:
Chamber A / B / C:
Chamber model: DPS II Poly
Bias gen: AE APEX 1513, 13.56 MHz
Bias match: AE 13.56 MHz, 3kv navigation
Source gen: AE APEX 3013, 13.56 MHz
Source match: AE 13.56 MHz, 6 kv navigation
Turbo pump: STP-A2703CV
Throttle valve: VAT Pendulum valve DN-320
FRC: MKS FRCA-52163310
ESC: Dual zone ceramic ESC
End point type: EyeD IEP
AXIOM Chamber:
RF Source: AE RAPID-OE PLASMA Sourse
VODM: N/A
Throttle valve: MKS 683
2006 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS DPS II AE G3 est un équipement multi-applications, multi-wafer etcher/asher de haute performance. Il est conçu pour traiter un large éventail de matériaux, y compris les composés III-V, le silicium sur isolant (SOI), le métal-oxyde-semiconducteur (MOS), l'arséniure de gallium (GaAs), le phosphure d'indium (InP) et les matériaux organiques. Il offre plusieurs technologies de gravure, y compris le dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD), la gravure ionique réactive (RIE) et le nettoyage à distance du plasma (RPC), pour la fabrication de dispositifs avancés. AMAT DPS II AE G3 assure une gravure précise, répétable et à haut débit de plusieurs couches minces de matériaux et de plusieurs dispositifs sur un seul substrat. Il offre des systèmes de contrôle avancés pour un processus précis et précis pour produire des structures de haute qualité étroitement contrôlées pour la fabrication de dispositifs. La machine utilise une source de plasma à haute densité couplée inductivement (ICP), ce qui améliore la sélectivité de gravure, augmente les taux de gravure et améliore l'uniformité. Il est équipé d'un robot chargeur UltraflexMD fermé, capable de transférer des pièces de toute taille, forme ou poids. Les données du système sont collectées et contrôlées par une unité de rétroaction des processus (P-Feedback), qui offre l'enregistrement des données en temps réel, la modélisation numérique des processus et le contrôle. Les données et les performances de la machine sont intégrées à la plateforme logicielle AMAT, fournissant un outil automatisé de mesure, de suivi et de rapport du processus de gravure et de nettoyage. Le logiciel comprend également un éditeur de recettes de glisser-déposer, la possibilité d'ajuster le processus à la volée et d'autres fonctionnalités avancées pour la programmabilité et le contrôle de l'utilisateur. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le DPS II AE G3 est conçu pour assurer un contrôle et une répétabilité supérieurs des processus, ce qui le rend idéal pour les environnements de production. MATÉRIAUX APPLIQUÉS DSPS II AE G3 est un graveur/asher puissant, idéal pour la fabrication de dispositifs haute performance et haute efficacité. Il offre une gamme complète de fonctionnalités avancées, conçues pour maximiser le débit, réduire les déchets, tout en maintenant la précision et la répétabilité dans les processus de gravure et de nettoyage. De la gravure monobloc à la gravure multi-plaquettes, le DPS II AE G3 est la solution idéale pour les besoins de gravure avancés dans une variété d'applications.
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