Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS DPS II AE G3 #9301026 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS DPS II AE G3 Asher et Etcher est un équipement avancé de traitement des semi-conducteurs utilisé pour former des composants critiques dans l'industrie électronique. L'équipement utilise la gravure plasma et le cendrage pour créer des motifs et des structures ultra-fines sur une gamme de substrats, y compris le verre, le silicone et les métaux. Le modèle G3 dispose d'une chambre de processus pouvant atteindre 600 mm et peut accueillir jusqu'à huit plateaux. Le système est conçu avec une plate-forme d'outil intégré (IT), qui combine les différents composants de l'unité en un seul appareil, et permet à l'opérateur de contrôler l'ensemble de la machine par l'utilisation d'une interface unique. AMAT DPS II AE G3 Asher et Etcher utilisent plusieurs technologies brevetées pour obtenir un traitement efficace et uniforme du plasma. La technologie ionique d'immersion dans le plasma (PIIT) permet de réduire les coûts et d'accélérer les taux de gravure, tandis que la source interne d'auto-organisation (ISSO) aide à obtenir des champs de vision plus grands et des modèles précis. Le modèle G3 comprend un module d'alimentation innovant avec un outil de contrôle numérique avancé, qui fournit un contrôle précis de l'ensemble du processus. MATÉRIAUX APPLIQUÉS DPS II AE G3 Asher et Etcher est un atout fiable et efficace, conçu pour résister à diverses conditions. Sa solution innovante Shutterless Etcher permet un refroidissement rapide des gaz de gravure, éliminant les dommages au vélo et augmentant la stabilité de l'outil. Le modèle est équipé d'un équipement en ligne de surveillance de l'énergie, pour aider à suivre et surveiller le processus à tout moment. Ce système avancé offre la flexibilité nécessaire pour créer une variété de motifs et de structures fines, en utilisant une gamme de produits chimiques et de gaz. Le DPS II AE G3 supporte des gaz réactifs tels que O2, CF4, CHF3 et H2, ainsi que des gaz de trempe tels que N2, Ar, He et Xe. AMAT/APPLIED MATERIALS DPS II AE G3 présente également une large gamme de paramètres de processus, y compris la température, la pression et la tension, qui peuvent être adaptés aux besoins de toute application. AMAT DPS II AE G3 Asher et Etcher est une unité puissante, fiable et polyvalente, conçue pour répondre aux besoins de l'industrie électronique d'aujourd'hui. Avec sa machine de contrôle avancée, le modèle G3 permet un contrôle précis des processus, assurant des résultats cohérents sur chaque substrat. La fonction innovante Shutterless Etcher, combinée à sa large gamme de paramètres de processus, permet une gravure et un cendrage rapides et uniformes, sans risquer d'endommager le matériau du substrat. MATÉRIAUX APPLIQUÉS DPS II AE G3 est l'outil idéal pour ceux qui cherchent à créer des modèles et des structures complexes dans les environnements les plus durs.