Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS DPS II #9204534 à vendre en France
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AMAT/APPLIED MATERIALS DPS II Etcher/Asher est un appareil de gravure plasma fiable et performant conçu pour la gravure précise des matériaux à couches épaisses et minces. Il fournit un débit élevé et permet à la fois la gravure dédiée et la cueillette de divers matériaux. AMAT DPS II Etcher/Asher a une architecture multi-chambres qui fournit des temps de cycle rapides et permet le traitement de plusieurs plaquettes en moins de temps. Le porte-plaquettes est conçu pour commuter rapidement entre chambres séparées, permettant un débit efficace. Toutes les chambres indépendantes sont alimentées par des générateurs RF indépendants, permettant des conditions de processus optimales chaque cycle. Le processus de gravure peut être réglé finement pour fournir les meilleurs résultats et le rendement maximum à chaque cycle. Le système fournit des commandes de position précises et permet des capacités de contrôle de pression variables. Une unité d'optimisation du plasma est incluse pour maintenir la qualité du plasma et fournir les taux de gravure les plus élevés. De plus, une gamme complète de recettes de processus automatisés, de diagnostics et de capacités de gestion de processus rendent les MATÉRIAUX APPLIQUÉS DPS II Etcher/Asher faciles à utiliser. DPS II Etcher/Asher est une machine extrêmement fiable et adaptée à la production de procédés de gravure et d'ashing de haute précision. L'outil est conçu pour la répétabilité des processus, et est équipé d'une variété de capteurs et d'outils de diagnostic pour assurer des résultats cohérents chaque cycle. L'actif est également conçu pour minimiser les temps d'arrêt avec une capacité de redémarrage sélectionnable. AMAT/APPLIED MATERIALS DPS II Etcher/Asher est la solution idéale pour les utilisateurs qui ont besoin d'un modèle de gravure/cueillette fiable et reproductible pour leurs processus de production. Il fournit des résultats de gravure précis et offre les niveaux les plus élevés de contrôle de processus et de débit. L'équipement est facile à utiliser, conçu pour la répétabilité, et offre une meilleure qualité plasmatique pour des rendements plus élevés.
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