Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS DPS #293749794 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS DPS (D lithic P hotosensibilisé S emiconducteur) est un outil de haute performance utilisé pour les procédés avancés de fabrication post-lithographique dans l'industrie des semi-conducteurs. Il est conçu pour offrir des performances supérieures tout en conservant une faible empreinte et un bon rapport coût-efficacité. Le procédé de gravure/cendres AMAT DPS est basé sur le procédé photothermochimique, qui utilise un rayonnement UV intense et des mélanges gazeux à haute résolution pour graver à travers la couche de résine photosensible requise dans le processus de lithographie. MATÉRIAUX APPLIQUÉS L'outil DPS a une chambre relativement petite avec un cycle de travail court. Il utilise une source de lumière UV intense pour créer une réaction photochimique avec les gaz injectés dans la chambre. La couche de résine photosensible est ensuite décomposée, permettant la gravure/cueillette du substrat de manière sélective. DPS etcher a une haute résolution, vitesse de gravure/cueillette rapide, et une température de substrat basse pendant le processus de gravure/cueillette. Il peut fournir des largeurs de ligne de 1 micron, avec des vitesses de gravure/cueillette allant jusqu'à 1,45 micron/min. Il fonctionne à basse température de procédé (< 80 ° C) ce qui minimise les dommages thermiques qui peuvent survenir sur le substrat en raison de l'augmentation de la température du substrat. La conception unique de chambre AMAT/APPLIED MATERIALS DPS etcher élimine le besoin d'entrées de puissance extraordinaires et fournit une grande uniformité de gravure. La fonction de distribution de gaz pulsé offre des avantages supplémentaires au processus de gravure/cueillette. Il permet un meilleur contrôle du processus de gravure/ashing grâce à des réglages précis des temps d'injection de gaz et du flux d'ions. Le temps d'injection du gaz est ajusté pour réduire la rétrodiffusion du gaz à la surface de la plaquette, ce qui réduit les dommages de surface dus aux particules chargées. Cette fonctionnalité permet également d'optimiser le processus et d'améliorer la mise en œuvre du procédé de gravure. AMAT DPS etcher est un outil précieux pour les processus semi-conducteurs qui exigent une haute résolution et de basses températures de substrat tout en gravure/cendre. Pour des débits plus élevés, le DPS MATÉRIAUX APPLIQUÉS peut être modifié pour augmenter les débits sans dégradation des performances. DPS etcher est une solution compacte et économique pour la fabrication post-lithographique avancée.