Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS DPS2AE #293603812 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS DPS2AE Etch/Asher Equipment est un système avancé de gravure plasma à sec conçu pour fournir des processus de gravure haute performance à un niveau de précision submicronique. C'est un outil fiable et facile à utiliser qui convient à la fois pour la recherche et la production. AMAT DPS2AE Etch/Asher Unit est une machine de gravure à sec plasma haut de gamme qui comprend des magnétrons planaires intégrés, un outil de distribution de débit massique de gaz contrôlé par ordinateur et une conception haute pression à chambre double. Cet atout est idéal pour graver une large gamme de matériaux semi-conducteurs, y compris des matériaux à base de silicium, SiGe et GaAs. Le modèle prend également en charge le contrôle statistique des processus, permettant aux utilisateurs d'automatiser leurs séquences de processus et d'améliorer l'assurance qualité. MATÉRIAUX APPLIQUÉS DPS2AE Etch/Asher Equipment est conçu pour répondre aux exigences de gravure de la technique de fabrication de semi-conducteurs de pointe. Sa conception à double chambre offre une précision et un contrôle du processus bien équilibré, et ses vannes de commutation haute vitesse assurent une réaction en temps réel aux conditions du processus de gravure. Le contrôle in situ du système est également capable d'optimiser les paramètres de processus de gravure selon les spécifications définies par l'utilisateur. DPS2AE Etch/Asher Unit utilise des logiciels avancés pour faciliter son fonctionnement. L'interface utilisateur contient la saisie détaillée des paramètres, la reconnaissance des lacunes, la programmation des séquences de processus et l'enregistrement des données. Ce logiciel fournit également des recettes de gravure automatique pour les exigences de processus les plus difficiles. AMAT/APPLIED MATERIALS DPS2AE Etch/Asher Machine est capable d'atteindre une qualité de gravure élevée avec une très faible génération de particules. Il offre également une excellente compatibilité des matériaux et peut graver de façon répétée des couches contenant de l'aluminium. Cet outil peut fournir une uniformité de gravure suffisante et peut être utilisé dans une variété d'étapes de processus, y compris la gravure de tranchées peu profondes, la gravure de panne/surcharge, et la planarisation. Enfin, AMAT DPS2AE Etch/Asher Asset offre une excellente cohérence de processus. Il fournit la répétabilité du processus, la stabilité et le contrôle du point final, fournissant la précision et la précision nécessaires pour les tâches de gravure hautement critiques. Le modèle réduit également les déchets dangereux, ce qui en fait une solution respectueuse de l'environnement. Combinant toutes ces caractéristiques, APPLIED MATERIALS DPS2AE Etch/Asher Equipment est un système fiable et performant de gravure et de cueillette de matériaux semi-conducteurs.