Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS eMax CT+ #9261583 à vendre en France

AMAT / APPLIED MATERIALS eMax CT+
ID: 9261583
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2006
System, 12" 2006 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS eMax CT + etcher/asher est un équipement de traitement semi-automatisé de haute performance développé pour la fabrication avancée de dispositifs semi-conducteurs. Il offre des capacités supérieures pour la gravure de précision et les processus de nettoyage. Le système utilise des méthodes de gravure et d'ashing à base d'halogènes pour atteindre le plus haut niveau de performance à des taux rentables. Grâce à sa technologie brevetée d'armoire à gaz, le graveur-asher est en mesure de graver de façon fiable les matériaux semi-conducteurs sans avoir besoin de procédés manuels coûteux et encombrants. L'unité est hautement automatisée, avec un contrôle automatisé des processus et une interface utilisateur intuitive. Certains des traits clés d'AMAT EMAX_CT + etcher/asher incluent : la capacité du gaz de température basse, le temps de cycle rapide et la consommation d'énergie basse étaient comparables aux systèmes de traitement conventionnels. La machine utilise des caractéristiques de gravure avancées, telles que la gravure ionique réactive (RIE), pour former avec précision les caractéristiques nécessaires dans les matériaux semi-conducteurs. En utilisant des paramètres de contrôle de processus serrés, les matériaux appliqués E-MAX CT + graveur/asher peuvent graver des couches d'oxyde de grille plus minces que 9 nm et des motifs plus fins que 10µm. Les recettes de processus programmables permettent également aux utilisateurs d'optimiser les rendements et de réduire les temps de cycle pour les processus complexes. L'utilisation d'espèces halogènes permet à l'outil de graver des matériaux fortement dopés avec un risque négligeable de raccourcissement. Les dispositifs de sécurité intégrés comprennent la protection contre la surcharge, la détection du niveau d'eau et une barrière de sécurité contre l'ozone de 50 mm. L'armoire de procédé halogène utilise la technologie de séchage réfrigéré pour fournir du gaz de procédé propre, augmentant la performance de gravure de l'actif. Une chambre de processus ouverte permet une accessibilité complète de la plaquette, permettant un entretien rapide et facile de notre graveur/asher. Le modèle dispose d'un design compact et robuste, et peut être facilement intégré dans une variété d'environnements de fabrication de semi-conducteurs existants. APPLIED MATERIALS EMAX_CT+ etcher/asher est un outil précieux pour la fabrication de semi-conducteurs, offrant des performances supérieures et un bon rapport coût-efficacité. Grâce à ses capacités de gravure et de cendrage de pointe, l'équipement est en mesure de répondre aux exigences les plus strictes des procédés semi-conducteurs avancés. Ses caractéristiques permettent la fabrication fiable de circuits intégrés à haut rendement et haute performance.
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