Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS eMax CT+ #9375192 à vendre en France
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ID: 9375192
Oxide etcher
(3) Chambers
(12) Gas panels
AMAT ETCH Configurable AC Rack
RF Generator rack
FI (EFEM):
UPS
Keyboard Video Mouse (KVM)
Ethernet switch hub: CTRLINK
Fast Data Gateways (FTG)
Long flex controller Assy (Flex 4)
Light curtain
Load port
RFID
ATM Robot
Aligner
Track
Robot controller
Gas panel temperature controller
Light tower
Intake plenum enclosure
MF Platform:
Type: 5.3 FI
TM Robot
TM Robot controller
I-Pump
TM Baratron gauge
Load lock vacuum gauge
Load lock indexer controller
Load lock and TM Diffuser
Load lock vent valve
Auto Pressure Controller (APC)
Slit valve
Modular DNET IO Controllers (MDI)
Chamber A, B and C:
Chamber Control Modules (CCM)
Shower head
Chamber liner
Cathode liner
Slit liner door
MAG Driver
ESC High Voltage Module (HVM)
Throttling gate valve
Embedded endpoint
Ceramic puck
HE Controller
Vacuum gauge
Vacuum switch
Pump
ISO Valve
RF Generator and match box.
AMAT/APPLIED MATERIALS eMax CT + est une plate-forme avancée de gravure/asperging conçue pour fournir des performances supérieures pour la fabrication de circuits intégrés. Il est optimisé pour la gravure 3D/2D, avec des capacités de gravure haute densité, ultra-fine grâce à une combinaison de faisceau d'ions, de plasma inductif couplé et de processus magnétiques. AMAT EMAX_CT+ offre une capacité de gravure de pointe grâce à une combinaison de technologies magnéto-hydrodynamiques à haute pression (MHDF) et à plasma à couplage inductif à basse pression (ICP). Il est capable de créer des géométries 3D complexes, ce qui le rend idéal pour la micro-fabrication de dispositifs avancés, y compris des composants semi-conducteurs, optoélectroniques et MEMS. MATÉRIAUX APPLIQUÉS E-MAX CT + est hautement personnalisable et peut être configuré avec diverses techniques de plasma et de faisceau d'ions pour les applications les plus exigeantes. Il est facile à utiliser et assure un processus de gravure de substrat rapide et fiable tout en offrant une résolution spatiale supérieure, critique pour la dernière technologie d'appareil miniaturisé. La chambre de procédé de APPLIED MATERIALS EMAX_CT+ présente plusieurs caractéristiques qui maximisent l'uniformité de pression et de température du substrat pendant le processus de gravure, assurant la meilleure uniformité possible du substrat et la stabilité du plasma. La chambre est également peu entretenue, 100 % sans fuite, et nécessite un minimum de participation de l'opérateur. Le processus de gravure se déroule dans un environnement fermé et des caractéristiques spécifiques telles que la pompe Peltier, la manutention des plaquettes à double densité et des outils de surveillance avancée de la température aident à réduire la contamination des particules. Ces caractéristiques font d'AMAT eMax CT + une excellente plate-forme pour la fabrication rentable de circuits intégrés. E-MAX CT + utilise des gaz renouvelables et inertes pour réduire l'impact environnemental et limiter la manipulation des matières dangereuses. Il dispose de systèmes de distribution de gaz qui assurent une livraison précise et efficace des gaz de procédé, fournissant une plate-forme de gravure flexible et fiable pour les exigences modernes de fabrication d'aujourd'hui. AMAT/APPLIED MATERIALS EMAX_CT+ est une plate-forme de gravure/aspergage fiable et facile à utiliser, conçue pour fournir précision et cohérence pour les besoins de fabrication de circuits. Son homogénéité supérieure et sa haute densité en font un excellent choix pour une fabrication de haute précision 3D/2D.
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