Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Mesa II #293823495 à vendre en France
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ID: 293823495
Polysilicon etcher
Mainframe
(8) Chambers
(6) MESA2 Process chambers
(2) Strip auxiliary chambers
Application: Titanium nitride deposition.
MATÉRIAUX AMAT/APPLIQUÉS Mesa II, également connu sous le nom de graveur/asher, est un outil de traitement semi-conducteur de pointe conçu pour remplir des fonctions critiques dans la fabrication d'appareils électroniques à haute performance. Elle appartient à la famille des graveurs à plasma, largement utilisés dans l'industrie des semi-conducteurs pour la gravure précise et contrôlée de couches minces sur plaquettes semi-conductrices. Au cœur de l'équipement AMAT Mesa II se trouve une chambre à plasma haute densité qui utilise une combinaison de gaz réactifs et d'énergie RF pour graver sélectivement le matériau ou les cendres de la surface de la plaquette. Le but principal de ce processus est de définir des motifs et des structures complexes sur la plaquette qui constituent la base des circuits et dispositifs électroniques. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Le système Mesa II est doté d'une technologie de pointe et d'éléments de conception innovants qui contribuent à sa haute performance et fiabilité. Une caractéristique clé est l'utilisation d'une source RF à double fréquence, qui permet un contrôle précis des caractéristiques du plasma et améliore la flexibilité du processus. Cela permet à l'unité d'obtenir des vitesses de gravure, une uniformité et une sélectivité supérieures, conduisant à une amélioration des performances et du rendement du dispositif. Un autre aspect important de la machine Mesa II est son outil sophistiqué de distribution de gaz, qui assure un contrôle précis des débits et des rapports de mélange des gaz réactifs utilisés dans le procédé. Cela permet à l'actif d'adapter la chimie du plasma aux exigences spécifiques du procédé, ce qui se traduit par des profils de gravure optimisés et des dommages minimaux aux parois latérales. Pour améliorer encore le contrôle et la répétabilité des processus, le modèle Mesa II d'AMAT/APPLIED MATERIALS est équipé de capacités de détection d'endpoint avancées. Cela permet à l'équipement de suivre avec précision l'avancement du processus de gravure en temps réel et de terminer le processus de façon fiable une fois que la profondeur de gravure ou le point final désiré est atteint. En plus de ses capacités de gravure, le système AMAT Mesa II dispose également d'une fonctionnalité asher, qui est utilisée pour enlever la photorésist et d'autres matériaux organiques de la surface de la plaquette. Il s'agit d'une étape critique du procédé de fabrication des semi-conducteurs, car il prépare la plaquette pour des étapes ultérieures de traitement telles que le dépôt et l'implantation ionique. MATÉRIAUX APPLIQUÉS L'unité Mesa II est conçue avec facilité d'utilisation et d'entretien, avec une interface conviviale et une construction robuste. Il offre également des capacités avancées de surveillance des processus et de diagnostic, permettant aux opérateurs d'identifier et de dépanner rapidement tout problème qui pourrait survenir pendant le traitement. Globalement, Mesa II etcher/asher représente une solution de pointe pour les fabricants de semi-conducteurs qui cherchent à réaliser des processus de gravure et d'ashing haute performance avec précision et fiabilité. Ses caractéristiques avancées, sa conception innovante et ses capacités supérieures de contrôle des processus en font un outil essentiel pour permettre la production d'appareils électroniques de pointe et assurer des rendements élevés sur un marché concurrentiel des semi-conducteurs.
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