Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS P5000 Mark II XT Optima #9213667 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II XT Optima est un graveur/asher de précision conçu pour un contrôle dimensionnel plus fin et la cohérence dans la fabrication à haut volume de composants photoniques, microélectroniques et semi-conducteurs. Elle utilise une réaction électrochimique pour faciliter le dépôt de couches minces de métaux conducteurs et non conducteurs, d'oxydes et de nitrures sur une surface de plaquettes semi-conductrices, permettant des applications photoniques et électroniques. AMAT P5000 Mark II XT Optima etcher/asher est un système compact et modulaire construit à partir d'une variété de matériaux, y compris l'acier inoxydable sous vide, l'aluminium moulé sous pression et les composites avancés à base de polyester. Une chambre d'écoulement laminaire intégrée fournit un environnement sans poussière et sans particules pour promouvoir les processus de gravure et de cueillette de précision. Ce système fermé comprend des systèmes intégrés de surveillance de l'environnement et de la sécurité pour s'assurer que les gaz et particules dangereux sont contenus et que l'environnement de travail est sûr. MATÉRIAUX APPLIQUÉS P5000 Mark II XT Optima utilise de multiples procédés de gravure et de cendrage avancés pour produire des pièces et des composants de haute précision et de haute qualité. Ses procédés électrochimiques de gravure et d'ashing impliquent l'utilisation d'une solution aqueuse diluée de produits chimiques réactifs et d'un courant électrique pour dissoudre et/ou oxyder des matériaux sur une surface afin de créer des films minces ou d'éliminer des matériaux indésirables. Selon les besoins du projet, de multiples techniques de gravure et d'ashing peuvent être utilisées en même temps pour obtenir de meilleurs résultats. Le coeur de P5000 Mark II XT Optima est un module d'évaporateur de faisceau d'électrons capable de produire des nanopatériaux, des nanostructures et une métallisation de nanofils très précis et contrôlés. Il dispose d'une source d'ions ainsi que d'une chambre de dépôt de quartz, et peut être configuré pour la gravure et le cendrage de haute puissance. Le système comprend également une unité de distribution de gaz pour fournir les gaz de dépôt d'aérosols nécessaires, un sous-système sous vide pour évacuer l'air de la chambre, et un module de commande de mouvement de haute précision pour obtenir des dimensions précises. AMAT/APPLIED MATERIALS P5000 Mark II XT Optima utilise une gamme de solutions de gravure et d'ashing pour créer des structures comprenant des nanowires, des nanopatterns et des nanostructures. Ses techniques de gravure et de cendrage à plusieurs niveaux de haute précision permettent un contrôle précis des épaisseurs des couches de film. La chambre d'écoulement laminaire intégrée réduit considérablement la quantité de poussière et de particules, tandis que ses systèmes avancés de sécurité et de surveillance de l'environnement garantissent un environnement de travail sûr. La construction modulaire et les processus de gravure et d'ashing de précision d'AMAT P5000 Mark II XT Optima en font un choix fiable et efficace pour la fabrication à haut volume de composants semi-conducteurs, microélectroniques et photoniques.