Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS Plasma II #293604234 à vendre en France

AMAT/APPLIED MATERIALS Plasma II Asher/Etcher est un équipement industriel utilisé pour le nettoyage et la gravure des substrats. Ce système est composé d'une chambre étanche, avec une alimentation électrique, des commandes et une unité de distribution de gaz. La chambre est refroidie par une machine à gaz qui maintient la chambre à basse température, ce qui aide à prévenir l'oxydation et permet un meilleur contrôle du procédé. L'outil est conçu pour fournir un processus de gravure plasma précis et répétable. Le procédé de gravure consiste à utiliser de l'énergie radio-fréquence (RF) à haute fréquence pour convertir un gaz, typiquement une combinaison d'argon, d'oxygène et de fluor, en un plasma. Le plasma est ensuite dirigé vers le substrat, où il attaque les impuretés, assurant une surface propre et uniforme. L'alimentation électrique utilisée dans AMAT Plasma II Asher/Etcher est conçue pour fournir une énergie RF élevée et est disponible dans une large gamme de fréquences, y compris 13,56 MHz, 2,45 GHz et 27 MHz. Cela permet aux utilisateurs de personnaliser le processus de gravure en fonction de leurs besoins spécifiques. L'alimentation permet également à l'utilisateur de régler le niveau de puissance du plasma, ce qui leur permet de contrôler la profondeur de gravure. L'actif de livraison de gaz est utilisé pour contrôler le type et la quantité de gaz utilisé dans le processus de gravure, et est capable de fournir à la fois haute et basse pression de gaz. Cela permet d'effectuer des ajustements pour différents procédés de gravure. Le débit de gaz est réglable, ainsi que le type et la pureté du gaz utilisé. Les contrôles doivent également être mis en place de manière adéquate pour s'assurer que le processus de gravure se déroule comme souhaité. L'utilisateur peut définir différents paramètres, tels que le temps de traitement, le débit de gaz, la puissance du plasma et les instructions à l'écran pour modifier les conditions de traitement. MATÉRIAUX APPLIQUÉS Plasma II Asher/Etcher est capable de produire d'excellents résultats, offrant aux utilisateurs un substrat gravé propre et uniforme, sans variation entre les pièces. Ce modèle est capable de graver divers matériaux tels que le silicium, le verre et le quartz, offrant une grande variété d'utilisations. C'est un équipement fiable avec des exigences d'entretien faibles, ce qui le rend idéal pour une variété de processus de gravure, à la fois dans la recherche et les laboratoires industriels.