Occasion AMAT / APPLIED MATERIALS PVD HTHU #179312 à vendre en France

ID: 179312
Chamber 11.3 source Assy (0010-75219) Magnet (0010-20389) Elbow (0040-21068) 2 position Gate valve 2 phase Cryo pump Wafer Lift (0010-76136) Motorized (0010-76137) Inner Zone Controller (0010-21055) Hinge (0040-20697).
AMAT/APPLIED MATERIALS PVD HTHU est un graveur/asher utilisé pour le dépôt de couches minces et d'autres modifications de surface dans un environnement sous vide. L'équipement est spécialement conçu pour le traitement de substrat de haute précision tels que la gravure et le cendrage, le dépôt de couches minces, le dépôt de couches d'oxyde et la passivation de dispositifs IC. Le système AMAT PVD HTHU est composé de 2 composants primaires, la chambre de gravure ou de cueillette et l'unité de vide. La chambre de gravure ou de cueillette est une enceinte en acier inoxydable qui abrite les gaz de procédé, les substrats et autres équipements de traitement. Il est conçu pour soutenir le traitement des substrats à haute température et se conformer aux normes de conformité de la salle blanche et de sécurité. La machine à vide est utilisée pour réguler la pression et l'écoulement des gaz à travers la chambre de gravure/cueillette. Il se compose d'une pompe à vide, de capteurs de pression et de soupapes de contrôle de pression. MATÉRIAUX APPLIQUÉS PVD HTHU utilise une technologie unique appelée procédés thermiques hybrides (HTHU) pour déposer ou graver des films minces et d'autres matériaux. Dans ce procédé, une combinaison de chaleur et de plasma est utilisée pour déposer ou graver les films. Le substrat est chauffé à des températures proches de la fusion tandis que l'on génère un plasma qui aide encore à graver ou à former des films à la surface du substrat. Ce processus est répété plusieurs fois pour créer les propriétés désirées. Les films ou motifs obtenus sont très fins et contrôlés avec précision. Le PVD HTHU peut également être utilisé pour d'autres modifications de surface de substrat telles que le dépôt de couche d'oxyde, la passivation et l'adhésion. Ces procédés sont tous réalisés dans la même chambre de gravure/cueillette avec le même outil sous vide. Cela permet des modifications de surface intégrées et efficaces pour de nombreux procédés de fabrication de dispositifs. AMAT/APPLIED MATERIALS PVD HTHU est un actif avancé de gravure/ashing qui offre un traitement de substrat précis et fiable pour l'environnement fab moderne. Il est conçu pour le traitement de haute précision, disponible pour de nombreux matériaux de substrat, et peut être utilisé pour divers dépôts de couches minces et d'autres modifications de surface. AMAT PVD HTHU est un modèle de gravure/ashing essentiel pour de nombreux processus de fabrication d'appareils.
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