Occasion ASYNTIS Silicon Star 8 #9114174 à vendre en France

ID: 9114174
Taille de la plaquette: 8"
Stress relief system for plasma etching, 8" Process data: Etch rate: up to 3 µm/min at process temperatures less than 70°C Throughput: 40 wafers/hour at 3 µm removal Process chamber: Inner diameter: 400 mm Chamber volume: 40 L Radical source on chamber top (remote plasma) Vacuum outlet with solenoid valve DN 63 ISO-K on bottom Automatic drawer door Viewing window Chamber leak rate: less than 5 Pa L/sec Radical generator: Water-cooled microwave radical generator Maximum power consumption: 2 kW Frequency: 2.45 GHz Water-cooled magnetron Gas supply: (3) Gas channels with solenoid valves and MFC's Stainless steel piping with 6 mm SWAGELOK fittings Down stream controller: butterfly valve DN 63 ISO-K Chuck system: Top plate for 8" wafers Water-cooled base Chamber controller: PLC controller and LCD display Multiple process programs Online viewing of process parameters Status and error messages Vacuum measurements: Capacitive vacuum gauge: gas type independent Measuring range: 1 to 1,000 Pa Main control unit: SIEMENS Simatic S7 Graphical user interface Online control of all parameters Robot system: 3-axis robot with servo drives Safety precautions: Emergency stop switch HF and UV absorbing view port Safety interlock system CE assembly and wiring regulations compliant (2) Cassette loaders (6) THERMO ELECTRON / HAAKE chillers: TC100 / TC300 (2) BUSCH Cobra DS 80 hivac pumps Facilities requirements: Cooling water for plasma source: 1/4" brass, 3L/min, 26°C, 0.5 to 1 bar Cooling water for chuck system: 1/4" brass, 5 L/min, 5 to 40°C, power: 2kW Process gas: 6 mm SWAGELOK, stainless steel, input: 2 bar Compressed air: 12 mm SWAGELOK, stainless steel, input: 4 to 6 bar Nitrogen purge: 12 mm SWAGELOK, input: 2 bar Currently in storage 230/400 VAC, 50/60Hz, 3-phase, 63A 2005 vintage.
ASYNTIS Silicon Star 8 est un graveur/asher conçu pour répondre aux besoins d'une variété d'industries. Il est adapté à un large éventail d'applications et de processus. La machine est équipée d'un équipement optique spatial de haute précision, qui supporte un large éventail de résolutions. Cela permet aux utilisateurs d'obtenir des mesures très précises et précises. Le système fournit 8 faisceaux optiques simultanés à haute résolution, avec une possibilité de division supplémentaire des faisceaux jusqu'à 80 millions de fois pour une gravure et un cendrage précis. La précision fournie par l'unité dépasse 5nm en direction verticale et 1nm en direction 2D, ce qui le rend parfait pour une lithographie très précise. La machine est en outre équipée d'un objectif de focalisation variable. Cette caractéristique permet de contrôler simultanément la profondeur de champ et l'intensité, ce qui est particulièrement utile dans l'industrie des semi-conducteurs. L'etcher/asher est également équipé d'une machine de mouvement de tête optique à faible perte et résistant aux vibrations. L'outil est capable de positionner avec une précision de 1µm dans la direction horizontale. La précision de positionnement sur l'axe vertical se situe dans une bande de 500nm, ce qui permet une grande précision d'application. Le Silicon Star 8 a un atout de refroidissement multifonctionnel, conçu pour refroidir les composants optiques de manière efficace. Bien que le modèle soit conçu pour utiliser la convection d'air naturel pour refroidir les composants, l'équipement est en mesure de refroidir activement les composants optiques en régulant le débit d'air. Ceci, à son tour, garantit que le système fonctionne à des performances optimales en tout temps. L'unité est en outre équipée d'une machine de poursuite optique de haute précision. Cet outil est capable de suivre en temps réel la matière gravée ou cendrée. La position, l'orientation et l'épaisseur peuvent être suivies pour une gravure ou un cendrage précis et précis. Enfin, l'actif est équipé d'une technologie de gravure sélective automatique. Cette fonctionnalité permet aux utilisateurs de graver des matériaux de manière sélective, sans intervention manuelle. Cette fonctionnalité est très utile lorsqu'il s'agit de modèles complexes et complexes. Dans l'ensemble, ASYNTIS Silicon Star 8 est un graveur/asher puissant qui fournit aux utilisateurs un degré élevé de précision et de précision. Le modèle est adapté à un large éventail d'industries et de procédés, et ses caractéristiques le rendent très recherché pour des applications exigeantes dans l'industrie des semi-conducteurs.
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