Occasion AVIZA Celsior FXP #293772072 à vendre en France

Fabricant
AVIZA
Modèle
Celsior FXP
ID: 293772072
Taille de la plaquette: 8"
Atomic Layer Deposition (ALD) system, 8".
AVIZA Celsior FXP est un équipement de graveur/asher haute performance conçu pour les procédés avancés de fabrication de semi-conducteurs. Il offre une gamme de capacités pour la gravure, le cendrage et le traitement de surface des matériaux semi-conducteurs avec une grande précision et uniformité. Le système intègre des technologies innovantes pour améliorer le contrôle des processus, augmenter la productivité et améliorer le rendement dans la fabrication des semi-conducteurs. Une des caractéristiques clés de Celsior FXP est sa capacité avancée de traitement du plasma. L'unité utilise une source de plasma haute densité pour générer un environnement plasma uniforme et stable pour les processus de gravure et de cueillette. La source de plasma peut être réglée pour fournir des conditions de procédé précises, telles que la composition du gaz, la pression et la puissance, pour atteindre les caractéristiques de gravure ou de cueillette souhaitées. Ce niveau de contrôle permet à la machine d'adapter les paramètres du processus à différents matériaux et structures de l'appareil, garantissant une performance optimale du procédé et la qualité de l'appareil. AVIZA Celsior FXP est équipé d'une chambre de procédé polyvalente qui supporte une large gamme de produits chimiques de gravure et de cendrage. L'outil peut accueillir divers gaz de procédé, y compris les produits chimiques à base de fluor, de chlore et d'oxygène, pour graver et cendrer différents types de matériaux, tels que le silicium, les composés de silicium, les métaux et les diélectriques. La chambre de processus est conçue pour minimiser la contamination croisée entre les différentes étapes de processus et maintenir une répétabilité élevée des processus sur les plaquettes et les lots. En plus du traitement plasma, Celsior FXP dispose d'une gamme de capacités de manutention et d'automatisation des plaquettes pour optimiser le débit et l'uniformité des plaquettes. Cet actif permet aux fabricants de semi-conducteurs de choisir la méthode de traitement la plus adaptée à leurs besoins de production. Le modèle de manutention des plaquettes est conçu pour une haute fiabilité et une faible génération de particules, assurant un transfert de plaquettes propre et efficace tout au long du processus. Pour améliorer encore le contrôle des processus et la productivité, AVIZA Celsior FXP est équipé d'outils de surveillance et de diagnostic avancés. L'équipement comprend des options de métrologie in situ, telles que la spectroscopie optique d'émission (OES) et la détection du point d'extrémité, pour surveiller les processus de gravure et d'ashing en temps réel et ajuster les paramètres du processus en conséquence. Ces outils permettent aux fabricants de semi-conducteurs d'optimiser les performances du procédé, de détecter les anomalies du procédé et d'améliorer la stabilité et la répétabilité du procédé. En outre, Celsior FXP intègre des algorithmes et des logiciels avancés de contrôle des processus pour permettre l'optimisation dynamique des processus et la détection des défauts. Le système peut ajuster les paramètres du processus en temps réel en fonction de la rétroaction des capteurs in situ et des outils de surveillance, ce qui garantit une performance constante du processus et un rendement élevé de l'appareil. L'interface logicielle sophistiquée permet aux utilisateurs de personnaliser les recettes de processus, de surveiller l'état des processus et d'analyser les données de processus pour l'optimisation des processus et le contrôle de la qualité. En conclusion, AVIZA Celsior FXP est une unité de graveur/asher de pointe conçue pour des applications de fabrication de semi-conducteurs qui nécessitent un traitement plasma haute performance, un contrôle précis des processus et des capacités d'automatisation avancées. La machine offre une plate-forme polyvalente pour la gravure, le cendrage et le traitement de surface des matériaux semi-conducteurs avec une grande uniformité, productivité et rendement. Il s'agit d'un outil précieux pour les fabricants de semi-conducteurs qui cherchent à obtenir une fabrication de dispositifs de haute qualité et une efficacité de processus dans les procédés avancés de fabrication de semi-conducteurs.
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