Occasion AXCELIS / FUSION Gemini GES AIM #293815341 à vendre en France

AXCELIS/FUSION GEMINI GES AIM est un graveur/asher utilisé pour le traitement des semi-conducteurs. Cet équipement est conçu pour la lithographie avancée, permettant la gravure profonde Si des caractéristiques de rapport d'aspect élevé. Il utilise FUSION Gemini haute puissance ICP source, offrant les meilleures capacités de vitesse de gravure en classe et le débit accru. Le système est équipé d'une unité de gaz auxillaire avec jusqu'à six sources de gaz de procédé, d'une chambre de gravure en silicium polycristallin à trois zones, d'une machine de détection du point d'extrémité du plasma in situ et d'un outil de guidage du faisceau pour un contrôle précis de la dose. Il utilise également une conception avancée de plaque de refroidissement, qui assure un refroidissement uniforme de la plaquette. Les principaux avantages de FUSION GEMINI GES AIM sont sa capacité à graver des caractéristiques à haut rapport d'aspect profondément dans le semi-conducteur, et ses capacités à haut débit. La source ICP de l'actif permet d'obtenir un taux de gravure maximal, ce qui est beaucoup plus rapide que les autres systèmes de gravure. Avec sa chambre de gravure en silicium polycristallin à trois zones et son modèle de détection in situ du point d'extrémité du plasma, il permet une gravure précise dans la couche de sous-microns. En outre, son équipement de guidage de faisceau assure un contrôle précis de la dose, permettant une gravure plus profonde et plus complexe de la plaquette. AXCELIS GEMINI GES AIM dispose également d'une plate-forme de contrôle hautement configurable, offrant aux utilisateurs la flexibilité de personnaliser et d'optimiser leurs processus de gravure. L'unité de gaz auxillaire du système fournit aux utilisateurs jusqu'à six sources de gaz de traitement, ce qui permet d'obtenir des paramètres de processus plus variés. De plus, la machine utilise les dernières techniques de gestion thermique telles que les plaques réfrigérantes, permettant un refroidissement uniforme de la plaquette. Globalement, GEMINI GES AIM est un outil de graveur/asher avancé qui offre des capacités de vitesse de gravure impressionnantes et un débit accru. Sa source ICP permet une gravure rapide des caractéristiques de haut rapport d'aspect, et sa plate-forme de contrôle configurable donne aux utilisateurs la flexibilité de personnaliser leurs processus de gravure. Le modèle de gaz auxillaire et la conception de la plaque de refroidissement de l'actif assurent une gravure précise et un refroidissement uniforme de la plaquette. Avec ses caractéristiques avancées, AXCELIS/FUSION GEMINI GES AIM est une solution efficace et fiable pour tout environnement de production de semi-conducteurs.