Occasion AXCELIS / FUSION MU #293767225 à vendre en France

AXCELIS/FUSION MU est un graveur/asher humide avancé qui est utilisé pour la fabrication de semi-conducteurs. Il est conçu pour graver et asher des couches extrêmement minces de matériau dans la gamme nano-sub-micron. Ses principales caractéristiques comprennent la gravure à grande vitesse avec un contrôle précis des paramètres de gravure, une large gamme de recettes de processus, et la capacité d'être utilisé dans une variété de procédés de fabrication de semi-conducteurs. FUSION MU utilise un procédé unique de gravure assistée par plasma qui lui permet de graver des couches de matériau très minces avec des résultats très précis et cohérents. Il utilise une source de fréquence cyclotron électronique pour générer le plasma, ce qui crée des ions de haute énergie qui brisent les liaisons moléculaires des matériaux afin de les graver. Ce procédé permet la gravure de matériaux jusqu'à 20 000 angströms d'épaisseur, avec une très grande précision et uniformité. Il permet également la gravure de traits très étroits jusqu'à un dixième de micron de taille. Non seulement AXCELIS MU effectue une gravure très précise, mais il peut également être utilisé pour effectuer des cendres. L'ashing est l'élimination contrôlée des matières organiques de la surface d'une plaquette à l'aide d'un baliseur gazeux. Ce procédé ne nécessite pas l'utilisation de gravures chimiques, mais utilise plutôt un procédé de cendrage assisté par plasma qui est alimenté par la même source que le procédé de gravure. Cela permet le contrôle et la personnalisation de tous les aspects du processus de cueillette, de la température du mélangeur à son mélange comburant-réducteur. MU a été conçu spécifiquement pour relever des défis difficiles. AXCELIS/FUSION MU dispose d'une architecture flexible qui peut être facilement adaptée à une variété de procédés de fabrication. La chambre est conçue avec une seule entrée de gaz, de multiples sorties, et une gamme d'électrodes qui peuvent être personnalisées pour effectuer la gravure et le cendrage. La chambre de gravure est chauffée et refroidie par des systèmes de gestion thermique indépendants pour des capacités de ramassage post-gravure optimisées. Les recettes de traitement pour les procédés de gravure et d'ashing peuvent également être facilement modifiées pour répondre à des besoins technologiques spécifiques. FUSION MU a un design riche en fonctionnalités qui offre une précision et un contrôle exceptionnels sur les processus de gravure et d'ashing. En raison de ses spécifications impressionnantes, il peut être utilisé dans une grande variété de procédés de fabrication, de la production de dispositifs semi-conducteurs avancés à la gravure et à la cueillette de photomasques, de micropuces et de masques à rayons X. Sa flexibilité, sa précision et son débit en font un atout avantageux et fiable pour tout environnement de fabrication de semi-conducteurs.