Occasion BRANSON / IPC RIE #161812 à vendre en France

BRANSON/IPC RIE (Reactive Ion Etching) est un graveur/asher pour la fabrication de semi-conducteurs et de microsystèmes électromécaniques (MEMS). C'est un graveur à plasma de haute précision avec une large gamme de sensibilité, un débit élevé et un faible coût de possession. IPC RIE travaille en déposant le plasma généré par RF Energy sur la surface du substrat où il grave rapidement des micro-caractéristiques dans le matériau. BRANSON RIE est équipé d'une gamme de fréquences de 3,5 kHz à 130 MHz et offre une large gamme de types de gaz, des capacités de contrôle RF et de contrôle de processus, permettant des résultats précis et reproductibles. RIE utilise un vide de chambre de 0,5-100 mTorr, chaque chambre pouvant atteindre un vide de 10-5 et 10-6 Torr qui est suffisant pour la gravure et le dépôt de précision. La chambre est capable de traiter jusqu'à 25 clichés et peut être exécutée dans différents modes tels que Argon, CF4, Cl2, O2, et spécialisés etc.. BRANSON/IPC RIE dispose également d'un processus MCMT intégré qui a la capacité de graver par gravure séquentielle et bidirectionnelle simultanée. Cela permet d'améliorer le contrôle du profil, la répétabilité du processus et les délais de traitement extrêmement rapides, tout en maintenant la résolution fine des fonctionnalités et la finition de la surface. IPC RIE offre également un système de contrôle de pression réglable qui permet des réglages faciles avec un minimum d'effort. BRANSON RIE est un graveur fiable et robuste qui peut être utilisé pour un large éventail d'applications telles que le dépôt de films minces et de dispositifs MEMS, les tranchées de gravure, les rainures et les vias et la gravure d'autres matériaux, y compris le saphir, l'aluminium et le silicium, permettant la fabrication d'appareils complexes et de haute précision. RIE est convivial et offre un large éventail d'avantages technologiques par rapport aux systèmes de gravure par voie humide. En résumé, BRANSON/IPC RIE est un graveur/asher haute performance qui est utilisé pour la fabrication de semi-conducteurs et de MEMS. Il offre aux utilisateurs un large éventail de fonctionnalités et de capacités de contrôle de processus, y compris la capacité de graver et de déposer en utilisant une variété de types de gaz et de contrôle RF. Il offre également des temps de traitement rapides, une répétabilité et un contrôle de pression réglable, ce qui en fait l'outil parfait pour de nombreuses applications différentes.