Occasion CANON / ANELVA I-2100 #293754407 à vendre en France

CANON/ANELVA I-2100 est un modèle graveur/asher fabriqué par CANON et ANELVA, Inc. CANON I-2100 est un équipement de graveur/asher avancé et performant. Ce modèle est utilisé dans la production de microfabrication Si. Il utilise un générateur de plasma, une chambre à vide et une soufflante d'échappement pour graver des motifs de circuits à la surface des circuits intégrés Si (IC). De plus, le système est capable d'aspirer les matériaux de surface indésirables, tels que les résidus de photorésist, les contaminants organiques et d'autres résidus indésirables. ANELVA I-2100 utilise une unité de génération à double plasma pour maximiser les capacités de pulvérisation et de gravure. Dans le procédé de gravure, le plasma ionisé provoque la formation de motifs de surface sur le Si. Ce procédé élimine effectivement la couche cible, puis les résidus restants sont aspergés ou enfouis hors de la surface. La machine utilise quatre sources de gaz externes, une haute température jusqu'à 715 Celsius, et une pression de chambre jusqu'à 1000 mbar, lui permettant de graver même les matériaux à base de Si les plus résistants. De plus, l'outil possède un cycle d'utilisation RF réglable ainsi que des fonctionnalités supplémentaires pour permettre des processus multi-étapes. Le centre de contrôle PC informatisé de l'I-2100 offre un moyen de surveiller les performances de gravure et de cueillette, et permet aux utilisateurs de contrôler les paramètres de l'actif afin d'optimiser les performances de gravure et de cueillette. Le modèle CANON/ANELVA I-2100 etcher/asher est un outil idéal pour le prototypage rapide, l'amélioration de la densité et la fabrication MEMS. Ses performances robustes, ses capacités de gravure et d'ashing avancées ainsi que ses paramètres réglables en font un favori parmi les ingénieurs et les concepteurs. Avec son centre de contrôle PC avancé et ses multiples sources de gaz, il peut facilement être intégré à d'autres systèmes et processus pour une efficacité maximale.