Occasion CANON / ANELVA ILD 4100 #9262531 à vendre en France

CANON/ANELVA ILD 4100 etcher/asher est un équipement de pointe de technologie plasma conçu pour la gravure et la cueillette de plaquettes, résines, polymères, diélectriques et autres matériaux utilisés dans l'industrie des semi-conducteurs. Il est équipé d'une chambre équipée d'un réacteur à plasma, d'une gaine plasma isolante et d'un système de dépôt de nitrure. La source d'ions de l'unité est un accélérateur d'ions linéaire capable d'accélérer des ions de divers matériaux jusqu'à des vitesses de 250 Volts par cm tout en réduisant la puissance. La machine dispose d'une douche à gaz variable pour fournir un environnement contrôlé pour des processus de gravure et de cueillette précis. De plus, le CANON ILD 4100 dispose d'une large chambre hydraulique et d'un outil de circulation de gaz en boucle fermée, permettant à l'actif de maintenir une concentration ionique constante, tout en maintenant une gravure uniforme et des profondeurs de cendres. Le modèle est bien adapté à une variété de processus de gravure et de cueillette. Ceux-ci comprennent la gravure de tranchées, la gravure d'isolement et la gravure de passivation de surface. Il travaille également pour les modifications de profil de surface, comme le recuit laser profond et peu profond, le traitement de surface, le stratification, le dépôt métallique et l'implantation ionique. En outre, ANELVA ILD-4100 est capable de réaliser des processus de gravure et d'ashing très précis, avec des niveaux élevés de reproductibilité et de répétabilité. ILD-4100 offre un équipement intégré d'implantation et de photolithographie du faisceau d'ions, permettant de réaliser des processus photolithographiques in situ avec la gravure et le cendrage. L'unité de contrôle du système est facile à utiliser et permet aux opérateurs d'ajuster divers paramètres pour améliorer les résultats du processus. La machine est également équipée de divers dispositifs de sécurité, tels qu'un outil de secours au gaz inerte, et d'autres dispositifs pour protéger la chambre et les éléments d'actif contre la contamination. Le modèle est capable de supporter un large éventail de gaz, de l'azote au xénon et à l'oxygène. L'équipement peut également s'intégrer à des procédés existants tels que le nettoyage, les procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et d'autres procédés in situ, ce qui assure la compatibilité avec les procédures standard de l'industrie. ILD 4100 est capable de produire des pièces de haute qualité, avec des rendements exceptionnels, sans sacrifier la vitesse de production ou le coût. Il est également très fiable, durable, facile à entretenir et compatible avec les pratiques et les équipements actuels de l'industrie. Dans l'ensemble, ANELVA ILD 4100 est un système de gravure et d'asher avancé qui est idéal pour une grande variété de processus de gravure et d'ashing plasma dans l'industrie des semi-conducteurs. Il offre un contrôle précis, la flexibilité et la répétabilité, ainsi que d'excellentes caractéristiques de sécurité. Ses capacités signifient qu'il est l'un des systèmes de gravure et de cueillette les plus fiables et conviviaux sur le marché.