Occasion CHEMCUT CC8000 #293759837 à vendre en France

CHEMCUT CC8000
Fabricant
CHEMCUT
Modèle
CC8000
ID: 293759837
Style Vintage: 2012
Etcher 2012 vintage.
CHEMCUT CC8000 est un graveur/asher de haute performance conçu pour le traitement précis et efficace des plaquettes semi-conductrices et autres substrats utilisés dans la fabrication de dispositifs microélectroniques. Cet équipement de pointe offre une gamme de capacités et de fonctionnalités qui le rendent idéal pour diverses applications dans l'industrie des semi-conducteurs. Au cœur de CHEMCUT CC 8000 se trouve sa technologie avancée de gravure par plasma, qui utilise une combinaison de réactions chimiques et de bombardements ioniques pour éliminer sélectivement le matériau de la surface du substrat. Ce processus est très contrôlable et permet une gravure précise des caractéristiques avec des rapports d'aspect élevés et une résolution spatiale fine. L'équipement est équipé de plusieurs régulateurs de débit de gaz, de capteurs de pression et de mécanismes de contrôle de la température pour garantir des conditions de processus optimales et des résultats de gravure uniformes sur toute la surface de la plaquette. Une des caractéristiques clés de CC8000 est ses capacités de traitement polyvalentes. Le système supporte une large gamme de procédés de gravure et d'Ashing, y compris, mais sans s'y limiter, le dioxyde de silicium (SiO2), le nitrure de silicium (SiN), le silicium polycristallin, les métaux et d'autres matériaux couramment utilisés dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Avec ses recettes de processus flexibles et ses paramètres personnalisables, les utilisateurs peuvent adapter le processus de gravure aux exigences spécifiques pour différentes applications et conceptions d'appareils. En plus de ses capacités de processus avancées, le CC 8000 est conçu pour un débit et une productivité élevés. L'unité dispose d'une conception multi-chambres qui permet le traitement par lots de plusieurs plaquettes simultanément, augmentant l'efficacité globale et réduisant les temps de cycle. L'équipement comprend également des mécanismes automatisés de manutention des plaquettes, tels que des bras robotiques et des systèmes de transfert des plaquettes, qui optimisent encore le flux de travail et minimisent l'intervention manuelle. Un autre avantage clé de CHEMCUT CC8000 est ses systèmes intégrés de surveillance et de contrôle. L'équipement est équipé de capteurs de suivi de processus en temps réel et de mécanismes de rétroaction qui permettent de suivre en permanence les paramètres critiques tels que la vitesse de gravure, l'uniformité, la sélectivité et la détection du point final. Cela permet un contrôle précis du processus de gravure et permet des ajustements en temps réel pour optimiser les performances et assurer des résultats cohérents d'un lot à l'autre. En outre, CHEMCUT CC 8000 est conçu avec des interfaces conviviales et des contrôles logiciels intuitifs qui simplifient le fonctionnement et permettent aux utilisateurs de programmer et d'exécuter facilement des processus de gravure complexes. L'équipement est livré avec un ensemble complet de recettes de processus pré-configurées et permet de recettes personnalisables pour répondre aux exigences spécifiques de l'application. De plus, la machine offre de nombreuses fonctions d'enregistrement et de rapport de données, permettant aux utilisateurs de suivre les paramètres du processus, d'analyser les résultats et d'optimiser les performances du processus au fil du temps. Dans l'ensemble, CC8000 est un outil de pointe de graveur/asher qui combine une technologie avancée de gravure par plasma, des capacités de traitement polyvalentes, un débit élevé et des fonctionnalités avancées de surveillance et de contrôle. C'est un outil précieux pour les fabricants de semi-conducteurs qui cherchent à obtenir un traitement précis et efficace des substrats pour la production d'une large gamme de dispositifs microélectroniques. Grâce à ses capacités robustes et à sa conception conviviale, le CC 8000 est en mesure d'améliorer la productivité, le rendement et la performance globale du procédé dans les installations de fabrication de semi-conducteurs.
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