Occasion CORIAL 300 iL #9267214 à vendre en France

Fabricant
CORIAL
Modèle
300 iL
ID: 9267214
ICP Etcher.
CORIAL 300 iL est un graveur/asher haute performance pour une large gamme d'applications microélectroniques. Le graveur/asher est conçu pour répondre à diverses exigences de gravure photorésist, utilisant une variété de matériaux et de gravures qui comprennent l'aluminium, le tungstène, le polyimide, le cuivre et le silicium. 300 iL peuvent être utilisés pour traiter des substrats jusqu'à 750 mm, avec des températures de processus jusqu'à 200 ° C et des pressions de propergol jusqu'à 850 mbar. L'etcher dispose également d'un contrôle précis de la température, permettant une précision de traitement jusqu'à ± 0,03 ° C La conception modulaire de la chambre assure des résultats fiables et de haute qualité, avec des critères d'uniformité de +/- 0,9 % de charge, et une isolation complète des nitrures pour une excellente performance thermique, conduisant à une qualité de gravure améliorée. CORIAL 300 iL a une construction robuste et convient pour une utilisation à long terme, avec une configuration round-robin pour des zones de traitement indépendantes qui peuvent être simultanément utilisées pour différents substrats et gravures. L'etcher dispose également d'un panneau d'alimentation en gaz FPT interruptible isolé qui permet des changements rapides de gaz, minimisant les temps d'arrêt. 300 iL est équipé d'une suite complète de logiciels de processus conviviaux, rendant la mise en service et le fonctionnement expert facile et pratique. Le logiciel de contrôle de processus comprend des recettes de processus intégrées, une optimisation efficace du temps de cycle, une cartographie universelle des paramètres et un contrôle de flux avancé. CORIAL 300 iL est un graveur/asher avancé avec d'excellentes performances de procédé et la fiabilité qui le rendent adapté pour des applications industrielles et de recherche de haut de gamme. Il offre une grande flexibilité et fonctionnalité pour la gravure de substrats incluant des plaquettes de silicium et des composants MEMS.
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