Occasion DENTON VACUUM Infinity FA #293798635 à vendre en France

DENTON VACUUM Infinity FA
ID: 293798635
Ion Beam Etcher (IBE) ICP RF source: 12, 14 cm Single wafer load lock Turbo pump SIMS ESD Substrate stage: Water-cooled stage Device: 10x10 mm Wafers diameter: Up to 4" Rotation speed: 0-20 RPM Tilt angle: 0°-90° Substrate fixture, 8": < ±3% Run-to-run repeatability: ≤ ±3%.
Introduction DENTON VACUUM Infinity FA est un équipement de pointe conçu pour le traitement plasma précis et uniforme des substrats. Cet outil polyvalent combine technologie de pointe et fonctionnalités conviviales pour fournir des résultats de haute performance dans un large éventail d'applications dans les semi-conducteurs, MEMS, l'optique, et d'autres industries. Avec son design innovant et ses capacités de pointe, Infinity FA est un outil indispensable pour la recherche et le développement, ainsi que des environnements de production de volume. Caractéristiques principales DENTON VACUUM Infinity FA dispose d'une chambre à vide robuste et fiable qui est conçue pour maintenir des niveaux de vide ultra-élevés pour un contrôle optimal du processus et la répétabilité. La chambre est équipée d'une gamme de dispositifs de sécurité avancés, y compris la protection contre les surpressions, les dispositifs d'immobilisation sous vide et les dispositifs d'arrêt d'urgence, afin d'assurer la sécurité de l'opérateur pendant le fonctionnement. La chambre dispose également de ports d'accès rapide pour un entretien facile, minimisant les temps d'arrêt et maximisant la productivité. Le cœur d'Infinity FA est sa source de plasma avancée, qui génère un plasma très uniforme sur toute la surface du substrat. Cette source de plasma est alimentée par un générateur RF haute fréquence, qui permet un contrôle précis des paramètres de processus tels que la puissance, le débit de gaz et la pression. Le générateur RF est équipé de réseaux d'adaptation automatique et de capacités de réglage d'impédance pour assurer un rendement de transfert de puissance maximal et un fonctionnement plasma stable. DENTON VACUUM Infinity FA dispose également d'un système de distribution de gaz polyvalent qui permet un contrôle précis des gaz et mélanges de procédés. L'unité comprend des régulateurs de débit massique pour une régulation précise du débit de gaz, ainsi qu'une machine d'injection multi-gaz pour créer des mélanges de gaz personnalisés. Cette flexibilité permet aux utilisateurs d'adapter la chimie du plasma à leurs besoins spécifiques, qu'il s'agisse de gravure de matériaux délicats ou de dépôt de couches minces. En plus de son outil avancé de distribution de sources plasmatiques et de gaz, Infinity FA est équipé d'une gamme d'outils de surveillance et de contrôle des processus pour garantir des résultats cohérents et fiables. Ces outils comprennent la spectroscopie optique d'émission (OES) pour la surveillance en temps réel des espèces plasmatiques, ainsi que les capacités de détection des points d'extrémité pour un contrôle précis des processus de gravure et de cueillette. L'actif dispose également d'un logiciel avancé de gestion des recettes qui permet aux utilisateurs de programmer et stocker des séquences de processus complexes pour faciliter la récupération et l'exécution. Applications DENTON VACUUM Infinity FA est idéal pour une large gamme d'applications de traitement du plasma, y compris la gravure ionique réactive (RIE), le dépôt chimique en phase vapeur amélioré par plasma (PECVD) et le nettoyage/ashing du plasma. Sa conception polyvalente et ses capacités avancées en font un outil idéal pour les laboratoires de recherche, les universités et les installations de production travaillant sur des technologies de pointe dans les domaines des semi-conducteurs, des MEMS, de l'optique et des nanotechnologies. Conclusion En conclusion, Infinity FA est un modèle de graveur/asher très avancé qui offre des performances, une flexibilité et une fiabilité inégalées pour un large éventail d'applications de traitement du plasma. Sa conception innovante, sa technologie de pointe et ses fonctionnalités conviviales en font un outil précieux pour les chercheurs, les ingénieurs et les fabricants qui cherchent à obtenir des résultats précis et reproductibles dans un environnement sous vide contrôlé. Que vous travailliez au développement de dispositifs semi-conducteurs de nouvelle génération ou meniez des recherches fondamentales en sciences des matériaux, DENTON VACUUM Infinity FA est le choix idéal pour tous vos besoins de traitement du plasma.
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