Occasion E&R Plasmax-601A #293779281 à vendre en France

Fabricant
E&R
Modèle
Plasmax-601A
ID: 293779281
Style Vintage: 2012
Plasma cleaning system 2012 vintage.
E&R Plasmax-601A est un équipement avancé de graveur et asher de plasma qui offre un traitement précis et efficace de divers matériaux dans les semi-conducteurs, MEMS (Micro-Electro-Mechanical Systems), et des applications de recherche. Cet outil polyvalent est conçu pour fournir des capacités de gravure et d'ashing uniformes et de haute qualité, ce qui en fait un composant essentiel dans la fabrication de microstructures et de nanostructures. Plasmax-601A utilise une combinaison de techniques de gravure du plasma et de cendrage du plasma pour éliminer le matériau de la surface d'un substrat par des réactions chimiques induites par une décharge de plasma. Le système est équipé d'une source de plasma haute densité, typiquement un générateur de radiofréquence (RF), qui crée un environnement plasma basse pression dans la chambre de procédé. Le plasma se compose d'ions, d'électrons, d'espèces neutres et de radicaux qui interagissent avec le substrat pour graver ou nettoyer sélectivement la surface. L'une des principales caractéristiques de E&R Plasmax-601A est son contrôle précis des paramètres du processus de gravure et d'ashing, y compris les débits de gaz, la pression, les niveaux de puissance et le temps de traitement. Ce niveau de contrôle permet aux utilisateurs d'obtenir des résultats très précis et reproductibles pour un large éventail de types de matériaux et d'épaisseurs. En outre, l'unité offre une variété d'options gazeuses telles que l'oxygène, l'azote, l'argon et l' CF4, permettant aux utilisateurs de choisir la chimie la plus adaptée à leurs besoins spécifiques d'application. Plasmax-601A est équipé de capacités avancées de surveillance et de contrôle des processus pour assurer des performances optimales et la stabilité des processus. La surveillance en temps réel de paramètres clés tels que l'impédance du plasma, les débits de gaz et la pression permet aux utilisateurs de suivre l'avancement du processus de gravure ou de cueillette et d'effectuer les ajustements nécessaires. La machine dispose également de recettes de processus automatisées et de fonctions de stockage de recettes, permettant aux utilisateurs de reproduire facilement les conditions de traitement réussies pour les opérations futures. La conception de la chambre de l'outil et la fourniture de gaz sont conçues pour obtenir une excellente uniformité et reproductibilité sur la surface du substrat. Une attention particulière est accordée à la distribution du gaz et aux schémas d'écoulement à l'intérieur de la chambre afin de minimiser les variations des taux de gravure et d'assurer la cohérence des résultats d'un lot à l'autre. E&R Plasmax-601A comprend également un modèle fiable de distribution de puissance RF qui combine efficacement l'énergie dans le plasma, permettant des densités plasmatiques élevées et des performances de processus améliorées. Sur le plan de la sécurité et de l'environnement, Plasmax-601A est conçu avec des caractéristiques telles que les emboîtements, la surveillance du débit de gaz et les systèmes d'échappement pour assurer la protection des exploitants et réduire au minimum le rejet de sous-produits dangereux dans l'environnement. L'équipement est également construit avec des matériaux robustes qui résistent aux dommages induits par le plasma et à l'exposition chimique, prolongeant la durée de vie opérationnelle de l'équipement et réduisant les exigences d'entretien. Dans l'ensemble, E&R Plasmax-601A est un système de graveur et d'asher plasma de pointe qui offre des performances exceptionnelles, un contrôle des processus et une fiabilité pour un large éventail d'applications dans les industries des semi-conducteurs et des MEMS. Ses fonctionnalités avancées, son interface conviviale et ses mécanismes de sécurité en font un outil précieux pour les environnements de recherche et de production cherchant à obtenir des résultats précis et uniformes de gravure et d'ashing.
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