Occasion ESC ELAS #9131115 à vendre en France

Fabricant
ESC
Modèle
ELAS
ID: 9131115
Taille de la plaquette: 6"-8"
RF / DC Sputtering system, 6"-8" RF Magnetron RF Diode operation Loadlock cryo pump, 8" Chamber, 10" Rectangular Heliarc welded 304 Stainless steel plate: 16 mm View-port: Pyrex window Pump-out port: 225 mm Diameter Load lock: 2-Level elevator Non-coated pallets loaded on upper level Processed pallets unloaded from lower level VITON O-ring Feedthrough: Linear bellows Magnetically coupled drive Drive: Hydraulics Low pressure drive Motion: Loading and unloading Fully-automatic computer controlled Capacity: Diameter wafers: 6-150 mm Diameter wafers: 4-200 mm Drive: Precision DC motor With optical encoder feedback control Chain drive Labyrinth shielded Option: DC Bias / RF Bias Coating speed: 3-350 cm/min, Bi-directional Vacuum system: Load lock CTI-CRYOGENICS Cryo-Torr 8 Vacuum pump Vacuum valve: 6" ASA (7-1/8" Diameter) Gate valve Electro-pneumatic operation Valves: 1-1/2" Bellows sealed Electro-pneumatic operation Roughing pump: 27 CFM (762 l/min) With process chamber Main chamber: CTI-CRYOGENICS Cryo-Torr 10 Vacuum pump Vacuum valve: ASA Gate valve, 10" Electro-pneumatic operation for gas throttling Load lock and cryo regeneration: 27 CFM Mechanical pump Anti-back-streaming trap for mechanical pump 1-1/2" Bellows sealed electro-pneumatic operation Etch platform: Moves vertically to engage / Disengage the pallet Cooling: Water-cooled Material: Stainless steel Insulator: Pyrex Dark space shield: Stainless steel Residual gas analyzer RF Generator: Continuously-rated and specifically designed for sputtering: 1 kW ISM Frequency: 13.56 MHz FCC and OSHA DC Magnetron power supply: ADVANCED ENERGY Pinnacle Power supply, 12 kW System performance specifications: Process parameter control ranges: Description / Minimum / Maximum / Units Sputtering pressure / 1 / 90 / Millitor Scan speed (bi-directional) / 3 / 350 / cm/min DC Sput / 100 / 12,000 / Watts RF Sput / 0.02 / 2.10 / kVA - / 0.1 / 2.00 / kW Etch revel (Note 2) / 0.02 / 1.50 / kVA - / 0.1 / 1.50 / kW DC Bias capability: Internal mechanism: DC Power DC Bias activated during DC sputtering Power supplies: 150 V.
L'ESC ELAS est un appareil électrochimique de gravure-cendrage conçu pour répondre aux exigences de précision de la gravure électronique à couches minces moderne. Il s'agit d'un système de gravure robuste et très efficace qui utilise une puissance en courant continu pulsé de haute densité pour des processus rapides et uniformes. L'unité est conçue pour une large gamme d'applications de gravure, y compris les matériaux à couches minces gravables comme les métaux, les oxydes et les polymères. Le procédé est capable d'obtenir une vitesse de gravure allant jusqu'à plusieurs centaines de nanomètres par minute, avec un contrôle très précis de la sélectivité, de la profondeur, de la largeur de ligne et de la rugosité de surface. La machine ELAS est construite sur une technologie éprouvée qui comprend un torse hermétiquement scellé en cuivre pour l'isolation et la résistance à la corrosion. L'unité est également équipée d'un élément chauffant intégré pour maintenir une température stable et d'une chambre de gravure à régulation électrique avec réglage automatique de la pression. Cela garantit des processus de gravure uniformes et facilite des résultats reproductibles extrêmement précis. Pour obtenir une vitesse de gravure optimale, l'outil utilise une grande variété d'organismes de gravure, y compris le dépôt chimique en phase vapeur, ou CVD, et les procédés de four à haute température. Une atmosphère inerte contrôlée séparément permet des temps de gravure plus longs, produisant des gravures plus profondes. Alternativement, des gravures de courte durée plus efficaces peuvent être réalisées par gravure plasma dans un environnement sous vide. L'actif ESC ELAS peut traiter un large éventail de tailles de plaquettes, de petites pièces de taille puce à de grands panneaux rectangulaires. Il est également équipé d'un étage XYZ qui permet le placement précis et la fixation du travailleur pendant le traitement. Le modèle inclut également E-Beam et le processus de gravure aux rayons X, pour des résultats de gravure plus précis. Toutes ces fonctionnalités se combinent pour faire d'ELAS un excellent choix pour les besoins de gravure de précision. L'unité est très fiable et capable de produire constamment des résultats de gravure de haute qualité. En outre, il permet aux utilisateurs de surveiller en permanence le processus de gravure grâce à des diagnostics avancés et offre une reproductibilité élevée des résultats. Par conséquent, il est idéal pour les applications de production électronique de haute précision sur le marché industriel.
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