Occasion ESC ELAS #9131115 à vendre en France
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ID: 9131115
Taille de la plaquette: 6"-8"
RF / DC Sputtering system, 6"-8"
RF Magnetron
RF Diode operation
Loadlock cryo pump, 8"
Chamber, 10"
Rectangular
Heliarc welded
304 Stainless steel plate: 16 mm
View-port: Pyrex window
Pump-out port: 225 mm Diameter
Load lock:
2-Level elevator
Non-coated pallets loaded on upper level
Processed pallets unloaded from lower level
VITON O-ring
Feedthrough:
Linear bellows
Magnetically coupled drive
Drive:
Hydraulics
Low pressure drive
Motion:
Loading and unloading
Fully-automatic computer controlled
Capacity:
Diameter wafers: 6-150 mm
Diameter wafers: 4-200 mm
Drive:
Precision DC motor
With optical encoder feedback control
Chain drive
Labyrinth shielded
Option: DC Bias / RF Bias
Coating speed: 3-350 cm/min, Bi-directional
Vacuum system:
Load lock
CTI-CRYOGENICS Cryo-Torr 8 Vacuum pump
Vacuum valve: 6" ASA (7-1/8" Diameter) Gate valve
Electro-pneumatic operation
Valves: 1-1/2" Bellows sealed
Electro-pneumatic operation
Roughing pump: 27 CFM (762 l/min)
With process chamber
Main chamber:
CTI-CRYOGENICS Cryo-Torr 10 Vacuum pump
Vacuum valve: ASA Gate valve, 10"
Electro-pneumatic operation for gas throttling
Load lock and cryo regeneration: 27 CFM Mechanical pump
Anti-back-streaming trap for mechanical pump
1-1/2" Bellows sealed electro-pneumatic operation
Etch platform:
Moves vertically to engage / Disengage the pallet
Cooling: Water-cooled
Material: Stainless steel
Insulator: Pyrex
Dark space shield: Stainless steel
Residual gas analyzer
RF Generator:
Continuously-rated and specifically designed for sputtering: 1 kW
ISM Frequency: 13.56 MHz
FCC and OSHA
DC Magnetron power supply:
ADVANCED ENERGY Pinnacle Power supply, 12 kW
System performance specifications:
Process parameter control ranges:
Description / Minimum / Maximum / Units
Sputtering pressure / 1 / 90 / Millitor
Scan speed (bi-directional) / 3 / 350 / cm/min
DC Sput / 100 / 12,000 / Watts
RF Sput / 0.02 / 2.10 / kVA
- / 0.1 / 2.00 / kW
Etch revel (Note 2) / 0.02 / 1.50 / kVA
- / 0.1 / 1.50 / kW
DC Bias capability:
Internal mechanism: DC Power
DC Bias activated during DC sputtering
Power supplies: 150 V.
L'ESC ELAS est un appareil électrochimique de gravure-cendrage conçu pour répondre aux exigences de précision de la gravure électronique à couches minces moderne. Il s'agit d'un système de gravure robuste et très efficace qui utilise une puissance en courant continu pulsé de haute densité pour des processus rapides et uniformes. L'unité est conçue pour une large gamme d'applications de gravure, y compris les matériaux à couches minces gravables comme les métaux, les oxydes et les polymères. Le procédé est capable d'obtenir une vitesse de gravure allant jusqu'à plusieurs centaines de nanomètres par minute, avec un contrôle très précis de la sélectivité, de la profondeur, de la largeur de ligne et de la rugosité de surface. La machine ELAS est construite sur une technologie éprouvée qui comprend un torse hermétiquement scellé en cuivre pour l'isolation et la résistance à la corrosion. L'unité est également équipée d'un élément chauffant intégré pour maintenir une température stable et d'une chambre de gravure à régulation électrique avec réglage automatique de la pression. Cela garantit des processus de gravure uniformes et facilite des résultats reproductibles extrêmement précis. Pour obtenir une vitesse de gravure optimale, l'outil utilise une grande variété d'organismes de gravure, y compris le dépôt chimique en phase vapeur, ou CVD, et les procédés de four à haute température. Une atmosphère inerte contrôlée séparément permet des temps de gravure plus longs, produisant des gravures plus profondes. Alternativement, des gravures de courte durée plus efficaces peuvent être réalisées par gravure plasma dans un environnement sous vide. L'actif ESC ELAS peut traiter un large éventail de tailles de plaquettes, de petites pièces de taille puce à de grands panneaux rectangulaires. Il est également équipé d'un étage XYZ qui permet le placement précis et la fixation du travailleur pendant le traitement. Le modèle inclut également E-Beam et le processus de gravure aux rayons X, pour des résultats de gravure plus précis. Toutes ces fonctionnalités se combinent pour faire d'ELAS un excellent choix pour les besoins de gravure de précision. L'unité est très fiable et capable de produire constamment des résultats de gravure de haute qualité. En outre, il permet aux utilisateurs de surveiller en permanence le processus de gravure grâce à des diagnostics avancés et offre une reproductibilité élevée des résultats. Par conséquent, il est idéal pour les applications de production électronique de haute précision sur le marché industriel.
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