Occasion GASONICS Aura 1000 #9210307 à vendre en France

GASONICS Aura 1000 est un équipement de graveur et asher de pointe conçu pour les procédés de fabrication de semi-conducteurs, tels que la gravure plasma et le décapage photorésist. Cet outil joue un rôle critique dans la fabrication de circuits intégrés, de dispositifs MEMS et d'autres produits semi-conducteurs en enlevant sélectivement des couches de matériaux de substrats avec une grande précision et répétabilité. Au cœur de l'Aura 1000 se trouve sa technologie avancée de traitement du plasma, qui utilise une combinaison de gaz, d'énergie radiofréquence (RF) et de conditions de vide pour créer un plasma hautement réactif qui peut graver ou strier différents types de matériaux. Le système se compose de plusieurs composants clés, dont une chambre de processus, une unité de distribution de gaz, une alimentation RF, des pompes à vide et une interface de contrôle, tous travaillant ensemble pour obtenir les résultats de processus souhaités. La chambre de procédé est l'endroit où est placé le substrat à traiter, et elle est conçue pour maintenir un environnement contrôlé pour le traitement du plasma. La chambre est typiquement réalisée en un matériau durable et résistant chimiquement, tel que l'acier inoxydable ou le quartz, pour résister aux environnements chimiques durs présents lors des processus de gravure et de strippage du plasma. La chambre est également équipée d'entrées de gaz pour l'introduction des gaz de procédé et d'orifices d'échappement pour l'évacuation des sous-produits générés lors du traitement. La machine de distribution de gaz de GASONICS Aura 1000 est chargée de contrôler avec précision les débits de gaz de procédé dans la chambre. Différents gaz peuvent être utilisés en fonction des exigences spécifiques du procédé de gravure ou de cueillette, tels que les gaz à base de fluor pour la gravure du silicium ou les gaz à base d'oxygène pour le décapage des photorésistances. L'outil de distribution de gaz assure que les bons mélanges de gaz sont livrés à la chambre aux débits corrects pour obtenir les résultats de processus souhaités. L'alimentation RF est une autre composante critique de Aura 1000, fournissant l'énergie nécessaire pour ioniser les gaz de procédé et maintenir la décharge de plasma dans la chambre. L'alimentation RF génère des champs électriques haute fréquence qui interagissent avec les molécules de gaz, créant un plasma de particules chargées qui peuvent réagir avec la surface du substrat. En contrôlant avec précision les niveaux de puissance RF, l'actif peut ajuster les propriétés plasmatiques et adapter le processus de gravure ou de décapage aux caractéristiques spécifiques des matériaux et aux exigences de traitement. Pour maintenir les conditions de processus nécessaires dans la chambre, GASONICS Aura 1000 est équipé de pompes à vide qui peuvent créer et maintenir les niveaux de vide requis pendant le traitement. En évacuant la chambre d'air et d'autres contaminants, les pompes à vide assurent un environnement propre et stable pour le traitement du plasma, minimisant les réactions indésirables et assurant une répétabilité et une cohérence élevées du processus. Dans l'ensemble, Aura 1000 est un outil polyvalent et fiable pour les fabricants de semi-conducteurs qui cherchent à réaliser des processus de gravure et de décapage précis et contrôlés dans leurs flux de production. Grâce à sa technologie avancée de traitement du plasma, à sa conception robuste et à son interface conviviale, GASONICS Aura 1000 offre un haut degré de flexibilité, d'évolutivité et de contrôle, ce qui en fait un outil essentiel pour une large gamme d'applications de fabrication de semi-conducteurs.