Occasion GD SEMI 808 ATE #293762122 à vendre en France
URL copiée avec succès !
Appuyez sur pour zoomer
ID: 293762122
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2007
Plasma etcher, 8"
RF
2007 vintage.
Le GD SEMI 808 ATE, également connu sous le nom de graveur ou asher, est un équipement de pointe utilisé dans les procédés de fabrication de semi-conducteurs pour le marquage, la gravure et le nettoyage des plaquettes. Cet outil est conçu pour fournir des résultats précis et fiables dans un large éventail d'applications, ce qui en fait un composant essentiel dans la production de circuits intégrés (IC) et autres dispositifs semi-conducteurs. Une des caractéristiques clés de 808 ATE est sa polyvalence et sa flexibilité dans la manipulation de divers matériaux et exigences de processus. Il est capable de réaliser à la fois des processus de gravure et de cueillette, permettant d'enlever de la surface de la plaquette des matériaux indésirables tels que des photorésist, des oxydes ou d'autres films. Cette capacité est cruciale dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs car elle permet la création de motifs et de structures complexes sur la surface de la plaquette. GD SEMI 808 ATE intègre la technologie plasma de pointe pour obtenir des taux de gravure élevés et l'uniformité sur la surface de la plaquette. La source de plasma génère des espèces réactives qui interagissent avec le matériau de la plaquette, éliminant efficacement la couche désirée avec une grande précision. Le système dispose également d'un système de distribution de gaz sophistiqué qui permet un contrôle précis des paramètres du processus, tels que les débits de gaz, la pression et la température, assurant des résultats cohérents et reproductibles. En outre, 808 ATE est équipé d'une gamme de systèmes de surveillance et de contrôle des processus pour optimiser le processus de gravure ou d'ashing. La surveillance en temps réel de paramètres clés tels que la détection du point d'extrémité, la température de la plaquette et la pression du processus permet aux opérateurs de peaufiner les paramètres du processus pour une performance optimale. De plus, l'outil peut comporter des algorithmes logiciels avancés qui peuvent ajuster automatiquement les paramètres du processus en fonction des réactions des systèmes de surveillance, ce qui améliore la stabilité et l'efficacité du processus. En termes de conception de chambre, GD SEMI 808 ATE dispose généralement d'une chambre à vide avec plusieurs porte-plaquettes pour accueillir un lot de plaquettes pour le traitement simultané. Cette configuration permet un débit et une productivité élevés, ce qui la rend idéale pour les environnements de production où le délai de commercialisation et le rendement sont des facteurs critiques. La chambre peut également comporter des caractéristiques telles que le contrôle de température, l'agitation magnétique et des fenêtres optiques pour la surveillance in situ du procédé. La sécurité est une autre considération importante dans la conception du 808 ATE. Le système est équipé de divers dispositifs de sécurité, mécanismes de décompression et systèmes de détection de gaz pour assurer la protection des opérateurs et prévenir les situations dangereuses. En outre, l'outil peut comporter une interface conviviale avec des contrôles intuitifs et des diagnostics pour faciliter le fonctionnement et la maintenance. Dans l'ensemble, GD SEMI 808 ATE représente une solution de pointe pour les fabricants de semi-conducteurs à la recherche de capacités de gravure et d'ashing performantes. Ses caractéristiques avancées, sa conception robuste et sa polyvalence en font un atout précieux dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs de pointe, permettant un tissage et un traitement précis des plaquettes avec un rendement et une fiabilité élevés.
Il n'y a pas encore de critiques