Occasion HITACHI M 712E #9112084 à vendre en France

HITACHI M 712E est un graveur et cendrier conçu pour les applications de gravure et de cendrage par voie humide. La machine offre une technologie de pointe pour la gravure précise et l'ashing pour répondre aux besoins du laboratoire de recherche et développement (R&D) exigeant. Il dispose d'un système intégré de cendrage chimique qui permet aux utilisateurs d'effectuer une gravure lourde, un cendrage profond et uniforme, et un contrôle de profil exceptionnel sans intervention manuelle. Le dispositif est intégré à des commandes de précision automatisées qui permettent un contrôle précis de l'épaisseur de revêtement du matériau de substrat. Il est idéal pour graver des substrats de grande surface avec une profondeur de profil faible. Le système de pulvérisation de HITACHI M712E etcher and asher est équipé d'une chambre à vide haute encoche avec une tête de douche double, qui traite à la fois de la gravure et de la cendre. Le traitement tête-à-tête ininterrompu entre les deux têtes permet un fonctionnement rapide et un fonctionnement en impulsions électriques de courte durée, ce qui maximise l'uniformité et la répétabilité. Il dispose d'une broche d'asservissement numérique haute performance entraînée par le puissant moteur AC pour assurer un positionnement précis de la broche afin de permettre un cendrage ou une gravure précis et reproductible. Il est également livré avec une interface graphique intuitive multi-langues (interface graphique), qui permet aux utilisateurs de contrôler et de faire fonctionner facilement le système sans configuration compliquée. La machine comprend également un boîtier intégré pour un entretien facile. Le dispositif bénéficie d'un design moderne qui peut aider à faciliter un fonctionnement efficace et des résultats précis. Il offre une large gamme de matériaux tels que les métaux, la céramique et les polymères, qui sont gravables et pouvant être aspergés. M 712E est idéal pour des applications telles que la fabrication de cartes de circuits imprimés, la fabrication de dispositifs RF, la fabrication de dispositifs semi-conducteurs et diverses autres exigences de traitement des semi-conducteurs.