Occasion HITACHI U-7050 #293748683 à vendre en France
URL copiée avec succès !
Appuyez sur pour zoomer
ID: 293748683
Style Vintage: 2007
Metal etcher
Chamber
Loader
Gas: O2, NR, CL2, AR, BCL3, CL2, HE
2007 vintage.
HITACHI U-7050 est un équipement de graveur/asher très avancé qui est conçu pour le traitement de précision des substrats de plaquettes semi-conductrices. En tant que composant clé du processus de fabrication des semi-conducteurs, les équipements de gravure et d'ashing jouent un rôle essentiel dans la définition des dimensions et des caractéristiques des circuits intégrés, des dispositifs MEMS et d'autres composants microélectroniques. U-7050 est conçu pour offrir des performances de processus exceptionnelles, la répétabilité et la fiabilité pour répondre aux exigences strictes de l'industrie des semi-conducteurs. HITACHI U-7050 dispose d'une plate-forme robuste et polyvalente qui peut accueillir une large gamme de tailles de plaquettes, de petites pièces jusqu'à des substrats de 300mm. Cette flexibilité permet aux fabricants de semi-conducteurs de traiter différentes tailles de plaquettes sur le même système, augmentant la productivité et l'efficacité. L'unité est équipée de capacités d'automatisation avancées, incluant des robots de manutention de plaquettes et un logiciel personnalisable de gestion des recettes, permettant une intégration transparente dans des environnements de production à haut volume. Un des points forts de U-7050 est son uniformité de processus supérieure et son contrôle. La machine utilise des technologies avancées de gravure plasma et de cendrage pour enlever le matériau de la surface de la plaquette avec une grande sélectivité et des dommages minimes. Ce niveau de contrôle est essentiel pour atteindre les tolérances serrées et les rapports d'aspect élevés requis pour les dispositifs semi-conducteurs de pointe. HITACHI U-7050 utilise une gamme de sources plasmatiques, y compris la gravure ionique réactive (RIE) et le plasma inductif couplé (ICP), pour permettre une variété de processus de gravure et d'ashing. Ces sources de plasma sont soigneusement optimisées pour fournir des taux de gravure élevés, une uniformité supérieure et un excellent contrôle du profil sur la surface de la plaquette. En outre, l'outil dispose de capacités de détection d'endpoint avancées pour assurer une fin de processus précise, minimisant la surgravure et améliorant les taux de rendement. En termes d'architecture d'actifs, U-7050 est construit avec un accent sur la fiabilité et la facilité d'entretien. Le modèle est équipé de systèmes avancés de distribution de vide et de gaz pour assurer des conditions de processus stables et un pompage rapide de la chambre. De plus, l'équipement intègre des fonctions de nettoyage in situ pour minimiser la contamination des chambres et prolonger la durée de vie des composants. HITACHI U-7050 est conçu avec une interface conviviale et des contrôles logiciels pour rationaliser le fonctionnement et optimiser les paramètres de processus. Le système dispose d'une suite complète de suivi et de diagnostic qui permet la rétroaction des processus en temps réel et l'analyse des données. Cela permet aux exploitants d'identifier et de régler rapidement toute déviation de processus ou tout problème d'équipement, en assurant une performance uniforme et fiable. Dans l'ensemble, U-7050 représente une solution de pointe pour les fabricants de semi-conducteurs qui cherchent à obtenir des procédés de gravure et d'ashing de haute qualité. Grâce à ses technologies de pointe, à un contrôle des processus supérieur et à une conception robuste, l'unité est bien adaptée aux exigences exigeantes de la fabrication de semi-conducteurs de pointe. En tirant parti des capacités de HITACHI U-7050, les fabricants peuvent améliorer leurs capacités de processus, améliorer les taux de rendement et rester compétitifs dans l'industrie des semi-conducteurs à rythme rapide.
Il n'y a pas encore de critiques