Occasion KEM / KOKUSAI Lambda 200IE #188566 à vendre en France

KEM / KOKUSAI Lambda 200IE
ID: 188566
Taille de la plaquette: 8"
Single type plasma ashers, 8".
KEM/KOKUSAI Lambda 200IE est un graveur et asher conçu pour traiter une large gamme de plaquettes semi-conductrices. Cet équipement utilise la technologie LAM-5000 pour délivrer des électrons à la surface de la plaquette. KEM Lambda 200IE se compose d'un système de serrure à deux pièces qui peut contenir jusqu'à 8 substrats. La cassette automatisée est reliée au générateur RF, à la source d'ions, à l'alimentation magnétron et à l'unité de vide. KOKUSAI Lambda 200IE est équipé d'un générateur RF haute puissance et d'une adaptation automatique qui permettent un contrôle précis de la vitesse de gravure et de l'uniformité. L'approche à loadlock variable permet l'adaptation de plusieurs tailles et matériaux de plaquettes. De plus, l'utilisation de l'alimentation magnétron permet un contrôle précis du temps de gravure et de cueillette, de la température et de la pression. La machine dispose d'une interface utilisateur graphique facile à utiliser et de plusieurs chambres de processus. Les deux chambres séparées sont dédiées à la gravure sèche et humide. La chambre de gravure à sec est équipée d'Ar et de N2 pour la gravure et la gravure à sec soustractive telles que SF6. La chambre de gravure humide est équipée d'eau DI avec une plage de température de 0 à 50 degrés Celsius. La gravure de couche conforme de haute qualité est obtenue par un contrôle précis de la température et de la pression. Lambda 200IE dispose également de multiples configurations adaptées à une variété d'applications de produits. Par exemple, avec l'ajout de l'adaptateur RIE/RIEC, l'outil peut être utilisé pour la gravure profonde. Le microscope Handy Probe est disponible pour l'inspection visuelle de la structure et de l'uniformité des échantillons. KEM/KOKUSAI Lambda 200IE est un outil fiable et polyvalent pour le traitement des plaquettes semi-conductrices. Cet actif offre un contrôle précis sur de nombreuses variables de processus avec des configurations faciles à utiliser. Les deux chambres dédiées offrent des capacités de gravure et de cendrage, tout en offrant un contrôle de la température et de la pression pour une gravure de couche conforme de haute qualité.
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