Occasion LAM RESEARCH 01-W1530B01C #293759117 à vendre en France

LAM RESEARCH 01-W1530B01C est un outil de pointe conçu pour fournir une précision et une efficacité exceptionnelles dans les applications de traitement des semi-conducteurs. Cet équipement de pointe est fabriqué par LAM RESEARCH Corporation, un des principaux fournisseurs d'équipement et de services pour l'industrie des semi-conducteurs. Le modèle 01-W1530B01C fait partie de la gamme de produits Etch de LAM, qui comprend une gamme d'outils spécialement conçus pour les processus de gravure et de cueillette dans la fabrication de semi-conducteurs. Une des caractéristiques clés de LAM RESEARCH 01-W1530B01C etcher/asher est son système sophistiqué de distribution de gaz, qui est capable de fournir une large gamme de gaz de procédé avec une grande précision et un contrôle. Cette unité permet une manipulation précise des débits de gaz, des pressions et des compositions, assurant des conditions de procédé optimales pour obtenir les résultats de gravure et de cueillette souhaités. L'outil est équipé de robinets de contrôle de débit de gaz avancés et de régulateurs de débit massique, qui permettent un débit de gaz précis et reproductible pendant le traitement. 01-W1530B01C modèle est également équipé d'une machine à chambre à vide de pointe, qui fournit un environnement contrôlé pour les processus de gravure et de cueillette. La chambre est conçue pour maintenir un niveau élevé de pression de vide, ce qui est essentiel pour obtenir des résultats de gravure et de cueillette uniformes et contrôlés. La chambre est faite de matériaux de haute qualité qui sont résistants à la corrosion chimique et à la contamination, assurant la pureté et l'intégrité de l'environnement de traitement. Une autre caractéristique clé de LAM RESEARCH 01-W1530B01C etcher/asher est son outil avancé de génération de plasma, qui est utilisé pour créer un plasma d'espèces réactives pour les processus de gravure et de cueillette. L'actif est équipé de générateurs radiofréquences de grande puissance (RF) et de réseaux d'adaptation, qui sont utilisés pour générer et maintenir une décharge de plasma dans la chambre de traitement. Le plasma est créé en appliquant la puissance RF aux gaz de procédé, ce qui entraîne la dissociation des molécules de gaz et la formation d'espèces réactives essentielles pour les processus de gravure et de cueillette. 01-W1530B01C modèle est également équipé d'un modèle de manutention de plaquettes très efficace, qui est conçu pour accueillir une variété de tailles de plaquettes et de types pour le traitement. L'équipement peut accueillir des plaquettes simples ou multiples sur un support, permettant un traitement à haut débit. Le système de manutention des plaquettes est conçu pour assurer un alignement et un positionnement précis des plaquettes au sein de la chambre de traitement, ce qui est essentiel pour obtenir des résultats de traitement uniformes et reproductibles. En conclusion, LAM RESEARCH 01-W1530B01C etcher/asher est un outil de pointe qui offre une précision, une efficacité et un contrôle exceptionnels pour les processus de gravure et d'ashing dans la fabrication de semi-conducteurs. Avec son unité de distribution de gaz avancée, sa machine à chambre à vide, son outil de production de plasma et son outil de manutention des plaquettes, cet outil est bien adapté à un large éventail d'applications dans le traitement des semi-conducteurs. Ses fonctionnalités et capacités avancées en font un atout précieux pour les fabricants de semi-conducteurs qui cherchent à obtenir des résultats de gravure et d'ashing de haute qualité.