Occasion LAM RESEARCH 2300 e5 Kiyo #9409252 à vendre en France
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ID: 9409252
Poly etchers
Cassette, 12"
Chambers:
(2) KIYO45
(2) KIYO EX
Stripper
Platform type: E5
EFEM:
(3) TDK TAS300 Loadport, P/N: S2096-76
KAWASAKI 3NT510B-A002 ATM Robot
BROOKS AUTOMATION 799-058309-003 ATM Robot
BROOKS AUTOMATION 196635 TM Robot, P/N: 401600-594-0001
EDWARD EPX180N IPump, P/N: A419-42-212
(5) GE 605-109114-001 CPUs
(5) 605-707109-012 VIOPs
(5) ENGENUITY 810-046015-009
(2) 853-031727-007 Temperature control units
(4) 810-495659-304 ESC Power supplies
(4) 685-801852-015 OES
VoDM
MKS Revolution III remote plasma source, P/N: 685-045803R034
(4) ESC, P/N: 839-019090-374
Gas configuration:
Gas box type: IGS
(18) Gas lines
MFC:
HORIBA SEC-Z719MGX
HORIBA SEC2719JX
HORIBA D219-SCT
SAM 2480G1
(3) MKS He UPCs
Strip gas:
(3) HORIBA SEC-Z719MGX
Vacuum gauge:
(3) MKS E58B-31775 Process vacuum gauges, 0.1 Torr
(3) MKS E28B-30200 Chamber vacuum gauges, 1 Torr
(2) MKS B28D-30518 Fore line vacuum gauges, 10 Torr
MKS 28PS0063 TM Vacuum gauge, P/N: 109070019CE
MKS 901P-81050-0070 Airkock1 vacuum gauge
MKS 901P-81050-0070 Airlock2 vacuum gauge
ACATEL ATH2800M Turbo pump
ACATEL Mag Power Turbo pump controller
(2) EDWARD STP-XA2703CV Turbo pumps
(2) EDWARD SCU-1600 Turbo pump controllers
BIAS RF Generator, P/N: 660-063437R003
TCP RF Generator
(2) BIAS RF Generators
(2) TCP RF Generators, P/N: 660-088888-002
(4) BIAS RF Matchers, P/N: 832-038915-001
(4) TCP RF Matchers, P/N: 835-043759-004
(4) BIAS RF Cables
(4) TCP RF Cables.
LAM RESEARCH 2300 e5 Kiyo est un outil avancé de gravure et de cendres spécialement conçu pour le traitement à très basse température de substrats de dispositifs incluant des plaquettes de silicium. Grâce à l'ingénierie avancée de la physique du plasma et de l'équipement, 2300 e5 Kiyo est capable d'atteindre des températures inférieures à 10 degrés Celsius pendant le processus de gravure et d'ashing. Cela permet un contrôle plus précis des résultats de gravure permettant aux concepteurs d'appareils de modéliser et de prédire plus précisément la défaillance du substrat avant la fabrication. LAM RESEARCH 2300 e5 Kiyo intègre un certain nombre de techniques différentes pour créer une gravure précise. Sa combinaison de systèmes de distribution de gaz et de plasma permet un contrôle précis de l'environnement du procédé, en veillant à ce que les propriétés des matériaux du substrat ne soient pas modifiées. 2300 e5 Kiyo utilise une source de plasma linéaire à haute fréquence unique pour créer un bombardement ionique à haute énergie à son point d'origine, ce qui fournit des gravures et des cendres avec une pureté et une précision extrêmement élevées. De plus, les capacités de programmation avancées de LAM RESEARCH 2300 e5 Kiyo le rendent très polyvalent, ce qui lui permet d'être utilisé dans un large éventail de processus, y compris la gravure, l'ashing, le dépôt et la métallisation. 2300 e5 Kiyo dispose également d'une variété de fonctions de sécurité, y compris un arrêt automatique du gaz en cas de surpression, un arrêt automatique en cas de surintensité, et un système intégré de surveillance de la pression pour s'assurer que l'environnement du processus est constamment surveillé tout au long du processus de fabrication. En plus de ses capacités de traitement impressionnantes, LAM RESEARCH 2300 e5 Kiyo est en mesure de réduire les coûts et d'améliorer la productivité grâce à son utilisation de robotique avancée, permettant un traitement continu sans arrêt des lots. Cette fonctionnalité permet aux utilisateurs de traiter plus d'appareils en un laps de temps plus court, conduisant à des rendements plus élevés et des délais de traitement plus rapides. Dans l'ensemble, 2300 e5 Kiyo est un graveur et asher avancé conçu pour fournir des résultats extrêmement précis dans une gamme de processus d'ultra-basse température. Grâce à sa combinaison de la physique des plasmas, de l'ingénierie des équipements et de la robotique, LAM RESEARCH 2300 e5 Kiyo est un outil puissant et fiable pour le traitement et la fabrication des appareils.
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