Occasion LAM RESEARCH 2300 Kiyo #174756 à vendre en France
Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.
Appuyez sur pour zoomer
Vendu
ID: 174756
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2006
Metal dry etch system, 12"
Type of Loadport: SMIF
Number of Process Chamber: (2) Metal Etch & (2) MWAVE STRPR
Configuration of SMIF:
Signal Tower: 3-colors
Number of Loadport: 3
Parts No. of Loadport: 799-901175-004
Number of ATM Robot: 1
Parts No. of ATM Robot: 121668
Buffer Station: 25 slots, 2 Buffer Station
Aligner: 1 Aligner
Configuration of Transfer Chamber
Number of Loadlock: 2 LL / 4 Slot Cool Chamber
Model of Transfer Robot: Magnatran7 / Borrks
Parts No. of Lock Valve: 853-007859-005 / 4ea
TM Pressure Gauge: HPS Series907 / MKS
TM Pressure Control: MKS Series640
LL Pressure Gauge: HASTING
Configuration of Etch Chamber:
PM2:
Model of Chamber: 2300 Metal
Year of Construction: 2005
Model of Pressure Gauge: MKS, 0.1Torr
Model of Throttle Gate Valve: 65048-PH52-ADR1 VAT
Model of Turbo Pump: ATH2300M Alcatel
Model of TCP RF Generator: RFG / AE
Model of Bias RF Generator: APEX1513 / AE
Configuration of Etch Chamber:
PM3:
Model of Chamber: 2300 Metal
Year of Construction: 2005
Model of Pressure Gauge: MKS, 0.1Torr
Model of Throttle Gate Valve: 65048-PH52-ADR1 VAT
Model of Turbo Pump: ATH2300M Alcatel
Model of TCP RF Generator: RFG / AE
Model of Bias RF Generator: APEX1513 / AE
Configuration of MW Chamber:
PM1:
Model of Chamber: 2300 MWAVE STRPR
Year of Construction: 04-2006
Model of Pressure Gauge: MKS, Dual range
Model of Throttle Gate Valve: MKA, 253B-24836
Model of Vaporizer: MKS, WODMB-23398
Model of MW Generator: ASTEX, FI120160-3
Configuration of MFC: O2 5slm, N2 1slm
Configuration of MW Chamber:
PM4:
Model of Chamber: 2300 MWAVE STRPR
Year of Construction: 04-2006
Model of Pressure Gauge: MKS, Dual range
Model of Throttle Gate Valve: MKA, 253B-24836
Model of Vaporizer: MKS, WODMB-23398
Model of MW Generator: ASTEX, FI120160-3
Configuration of MFC: O2 5slm, N2 1slm
Configuration of Gas Panel, Etch Chamber:
Type of Gas Panel: IGS Bolck Type
No of Gas Channel: 8 Channel
Model of MFC: UFG8561
PM2:
BCL3 300sccm
N2 50sccm
Ar 500sccm
O2 1slm
CH4 50sccm
SF6 200sccm
Cl2 300sccm
CHF3 50sccm
PM3:
BCL3 301sccm
N2 51sccm
Ar 501sccm
O2 2slm
CH4 51sccm
SF6 201sccm
Cl2 301sccm
CHF3 51sccm
Gas Box 1.25C Seal Type
TMP Axiden ATH2300M
Micro Wave Power Gen MKS FI20160-3
RF Generator AE APEX-1513 and AE RFDS-1213
Chiller Unisem RCS 2500A
Power: 208VAC 3ph 4Wires 400AMPS 50/60Hz
2006 vintage.
LAM RESEARCH 2300 Kiyo est un équipement de graveur/asher révolutionnaire conçu pour la précision, la fiabilité et la flexibilité. Ce système de graveur/asher avancé est conçu pour supporter des dispositifs de différentes tailles et configurations. Son architecture permet un contrôle précis des processus et une répétabilité lors de la gravure et de la cueillette d'un large éventail de matériaux de substrat. 2300 Unité Kiyo utilise des algorithmes intelligents pour calculer les paramètres de gravure et d'ashing optimaux pour chaque type de substrat, garantissant des résultats cohérents à chaque fois. Il est conçu pour réaliser des processus de planarisation mécanique chimique (CMP), de polissage mécanique chimique (CMP), de gravure chimique (ISO), de gravure ionique réactive profonde (DRIE) et de gravure ionique réactive (RIE). De plus, la machine est capable de nettoyer le dos avec précision. L'outil LAM RESEARCH 2300 Kiyo est équipé de plusieurs fonctionnalités avancées telles qu'une capacité d'analyse des flux de gaz, un contrôle de la température sur la plage de pression, un réglage du suscepteur et un mode de contrôle de la température du substrat. Ces fonctionnalités permettent à l'opérateur de personnaliser et d'ajuster l'actif pour obtenir les résultats de gravure et de cueillette souhaités. De plus, grâce à ses contrôles de processus intelligents intégrés, le modèle permet un suivi et un ajustement automatisés des paramètres de processus pertinents, donnant finalement des résultats reproductibles. 2300 Équipement Kiyo est également livré avec un logiciel intuitif pour un contrôle facile du système et la collecte de données. L'interface graphique et le logiciel de l'unité fournissent aux utilisateurs un environnement de gravure et d'ashing complet qui permet des performances de processus reproductibles et fiables. La machine permet également aux utilisateurs de surveiller et d'analyser les données du processus en temps réel via une connexion directe et multi-sites, permettant aux utilisateurs de prendre rapidement des décisions éclairées. Dans l'ensemble, l'outil LAM RESEARCH 2300 Kiyo etcher/asher offre une fiabilité et des performances inégalées pour graver et aspirer un large éventail de substrats. Ses fonctionnalités avancées et son logiciel intuitif offrent une expérience utilisateur facile et efficace, permettant aux utilisateurs d'obtenir des résultats reproductibles et cohérents à chaque fois. En combinant ces fonctionnalités et capacités, 2300 Kiyo actif fournit une solution complète de gravure et d'ashing pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs.
Il n'y a pas encore de critiques