Occasion LAM RESEARCH 2300 Metal45-CIP #9241985 à vendre en France

LAM RESEARCH 2300 Metal45-CIP etcher est un équipement haute performance, multi-chambres, à base de plasma conçu pour les processus de gravure dans l'industrie des semi-conducteurs. Il dispose d'une architecture modulaire source-hôte brevetée qui offre de la flexibilité et améliore le débit pour les processus de gravure complexes. La grande taille de la chambre de 400mm permet un système capable de réaliser la production de dispositifs à haut volume ainsi que le traitement spécialisé des plaquettes. En outre, cette unité offre un haut niveau de fonctionnalité et de précision de processus via le chargement et le déchargement de substrat, des configurations de chambres multiples, et la capacité d'effectuer une gravure isotrope et anisotrope. Le Metal45-CIP est équipé de sources de plasma à couplage capacitif multifréquence (PCC) qui couvrent la gamme de fréquences de 100MHz à 2.45GHz. Cette large gamme de fréquences permet à la machine de graver plusieurs matériaux et couches avec un contrôle de processus et une uniformité supérieure grâce à la souplesse de réglage de la puissance de la source, de la température et de la pression. De plus, le Metal45-CIP est capable de contrôler la tension de polarisation du substrat pour réduire la puissance RF au niveau du suscepteur. Grâce à ce niveau amélioré de contrôle des processus, les concepteurs de semi-conducteurs sont en mesure d'obtenir un contrôle très précis des structures de dopage, de contact et de grille. L'architecture MPSH (multiport source-host) brevetée du Metal45-CIP permet une entrée verticale directe des sources de gaz, permettant une distribution rapide et efficace du gaz et réduisant ainsi les effets de pompage du gaz et améliorant l'uniformité de gravure. En outre, l'outil dispose d'une conception modulaire qui permet le fonctionnement simultané de jusqu'à 3 chambres, permettant des configurations d'actifs flexibles en fonction des besoins de l'application et du processus. En outre, le Metal45-CIP est équipé de dispositifs de sécurité avancés tels que des emboîtements mécaniques pour le modèle source-hôte et de détection des fuites de pression pour protéger le personnel et faciliter les opérations en toute sécurité. En outre, il dispose de capacités de surveillance et de diagnostic avancées telles que la surveillance à distance pour accroître la productivité et la disponibilité de l'équipement. En conclusion, 2300 Metal45-CIP etcher est un système avancé, multi-chambres, à base de plasma pour les processus de gravure dans l'industrie des semi-conducteurs. Avec ses multiples configurations de chambres, sa large gamme de fréquences, son architecture modulaire MPSH et ses fonctions de sécurité avancées, l'unité offre un haut niveau de contrôle des processus pour des performances efficaces et fiables.