Occasion LAM RESEARCH 2300 V2 #293815148 à vendre en France

LAM RESEARCH 2300 V2
Fabricant
LAM RESEARCH
Modèle
2300 V2
ID: 293815148
Plasma processing system Used for oxide etching.
LAM RESEARCH 2300 V2 est un équipement de pointe de graveur/asher qui est utilisé dans l'industrie de la fabrication de semi-conducteurs pour des processus précis d'enlèvement de matériaux dans la fabrication de circuits intégrés. Cet outil de pointe intègre une technologie de pointe et des fonctionnalités permettant un haut débit, un contrôle de processus supérieur et une répétabilité exceptionnelle. Au cœur de 2300 V2 se trouve une chambre de gravure/cueillette plasma sophistiquée qui est conçue pour une performance optimale du processus. La chambre est équipée de systèmes avancés de distribution de gaz, de sources de plasma RF et de mécanismes de contrôle de la température pour créer un environnement hautement contrôlé pour la gravure ou l'ashing des matériaux sur les plaquettes semi-conductrices. Le système est capable de recevoir diverses chimies de procédé et configurations de gaz pour supporter un large éventail de processus d'enlèvement de matériaux, y compris la gravure de matériaux diélectriques, métalliques et semi-conducteurs, ainsi que de résister au dénudage et à la modification de surface. La flexibilité des capacités des procédés fait de LAM RESEARCH 2300 V2 un outil polyvalent pour de multiples applications dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Une des caractéristiques clés de 2300 V2 est ses capacités avancées de surveillance et de contrôle des processus. L'unité est équipée de plusieurs capteurs in situ, tels que la spectroscopie optique d'émission (OES) et les systèmes de détection d'endpoint, pour fournir en temps réel des commentaires sur les paramètres du processus et les taux d'élimination des matériaux. Cela permet un contrôle précis des processus de gravure/cendres et assure une répétabilité et une uniformité élevées des processus sur les plaquettes. LAM RESEARCH 2300 V2 offre également des fonctionnalités avancées d'automatisation et de gestion des recettes pour rationaliser le fonctionnement et augmenter la productivité. La machine peut être facilement intégrée dans des lignes de fabrication de semi-conducteurs et contrôlée grâce à une interface conviviale pour un fonctionnement et une gestion des données sans faille. De plus, le 2300 V2 dispose d'un outil de réduction des émissions de gaz très efficace pour minimiser l'impact sur l'environnement et maintenir des conditions d'exploitation sûres dans l'installation de fabrication. L'actif est équipé de technologies avancées d'épuration pour éliminer les sous-produits nocifs et assurer le respect de la réglementation environnementale. En termes de performance, LAM RESEARCH 2300 V2 est connu pour sa grande homogénéité gravure/cendres, sa répétabilité des procédés et ses faibles niveaux de défauts. Le modèle est capable d'atteindre des débits élevés tout en maintenant un contrôle de processus serré pour les exigences de dimension critique et de profil dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Au total, 2300 V2 est un équipement de pointe de graveur/asher qui offre des performances de processus exceptionnelles, des capacités de contrôle avancées, et une fiabilité robuste pour les applications de fabrication de semi-conducteurs. Ses caractéristiques avancées, sa flexibilité et son bon fonctionnement en font un outil précieux pour réaliser des processus d'enlèvement de matériaux de haute qualité dans la fabrication de circuits intégrés.
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