Occasion LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo #9226894 à vendre en France
Il semble que cet article a déjà été vendu. Consultez les produits similaires ci-dessous ou contactez-nous et notre équipe expérimentée le trouvera pour vous.
Appuyez sur pour zoomer
Vendu
ID: 9226894
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2012
Polysilicon etch chamber, 12"
Process: HIK
Diameter: 300+/- 0.05mm (SEMI M28), 775 +/- 25um
2300 Kiyo process module
2012 vintage.
LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo est un graveur/asher conçu pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il s'agit d'un graveur entièrement fermé, haute pression, haute température, à vide élevé conçu pour traiter des substrats de grande surface dans la gamme de taille 300mm. L'équipement a une grande capacité et une conception brevetée de loadlock atmosphérique qui permet un transfert de substrat facile et efficace. Le système peut traiter une gamme de matériaux dont Si, SiGe, SOI, Al, Ti, Cu, et plus encore. L'unité est une plate-forme de gravure ionique haute efficacité, à double longueur d'onde, capable de réaliser des processus standard et à haut rapport d'aspect. Il est équipé d'une source de gravure à haute puissance, d'une injection de gaz à haute pression, d'un outil de manutention des gaz d'échappement et d'un outil de diagnostic in situ. La chambre de gravure et les modules de procédé sont construits en acier inoxydable robuste et disposent d'un contrôle précis de la température sur l'ensemble du processus de gravure. Il est capable d'atteindre des conditions de haute température et de plasma élevé pour les processus de gravure anisotrope profonde avec une contamination de chambre minimale. Le modèle est aussi équipé avec le Traitement de Kiyo™ Sidestream fait breveter de RECHERCHE DE LAM, qui tient compte amélioré gravent à l'eau forte l'uniformité et la stabilité de processus améliorée. Cette caractéristique permet un contrôle indépendant du plasma de chaque côté de la chambre de gravure, permettant d'optimiser le profil de gravure aux exigences du procédé. L'équipement dispose également d'un système de surveillance des processus qui permet de surveiller en temps réel des paramètres critiques tels que la géométrie des plaquettes, la température et l'uniformité du plasma. L'unité est entièrement intégrée et automatisée avec une interface utilisateur graphique (interface graphique) basée sur Windows et un contrôle de processus à l'écran. L'interface permet de configurer facilement des processus complexes et fournit une machine de rapport complète qui comprend un catalogue de processus et des données de processus en temps réel. L'outil comprend également des mesures optiques en chambre pour recueillir des données sur l'épaisseur du film et de l'oxyde ainsi que la forme du profil. 2300 Versys Kiyo est un graveur/asher fiable et polyvalent qui peut répondre aux besoins exigeants de la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Il est conçu pour la gravure à haut débit, haute uniformité ainsi que le polissage mécanique chimique (CMP). Grâce à son contrôle précis de la température et à ses capacités avancées de surveillance des processus, l'actif est en mesure d'optimiser les performances tout en maintenant des rendements élevés.
Il n'y a pas encore de critiques