Occasion LAM RESEARCH 2300 Versys Metal #293829553 à vendre en France
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ID: 293829553
Chamber
Quick clean kits
Pendulum valve clean kits
Chamber manometer filter
Wafer clamping mechanism: Bipolar ESC, Ceramic
Edge ring: Standard
ESC Hose kit: Standard with shaft seal
ESC Facility plate: Compression facility plate
Chamber manometer: Standard
Wafer lift mechanism: Direct drive
Focus ring: Ceramic
Capacitance lock: No capacitance lock
Voltage control interface: 1200V
Gas feed: Top
O-rings: Chemraz
TCP Coil plating: Improved coil plating
200MM Turbo pump: 2200 L/s BOCE (Seiko Seiki)
Endpoint detection: Optical emission spectroscopy
Chamber isolation valve: Chemraz seal door on VAT Rkr
Lower isolation valve: Chemraz (-101)
Pump to TCU: 50ft
TCU to PM: 100ft
PM to Pump interconnect: 100ft
TCU to RPDB: 50ft
Pump to RPDB: 50 ft
Gas box:
Mounting location: Transport module
Door: Window
Primary valve options: Lock-out tag-out manual valve
Facilitization: No gas interface box
Gas system exhaust: Top exh (Heat and smoke ABTMNT)
Gas system metrology
Primary proc gas line valves: CIP
Secondary proc gas line valves: CIP
Jetstream gas box:
Config MFC by Line? : Yes: Line by line
(16) Process gas lines
Heated gas lines option heated lines: Pos 1 & 2
Manifold options: Multi-exit
Peripherals:
Metal etch backing pumps cust: Supply: IH-600
Metal etch TCU config cust supply: 4080 Plus
PEDB
TCU Hose kit: Lam supplied
TCU to PM hose type: Standard
Gas box config:
Line / MFC Type / Gas type / Gas Flow / Heated / Facilitization
Line 01 / - / No gas / - / - / Yes / No
Line 02 / SD519 / BCL3 / 500 / Yes / No
Line 03 / SD519 / O2 / 200 / No / No
Line 04 / SD519 / CL2 / 300 / No / No
Line 05 / SD519 / NF3 / 200 / No / No
Line 06 / - / No gas / - / No / No
Line 07 / SD519 / SF6 / 200 / No / No
Line 08 / SD519 / N2 / 500 / No / No
Line 09 / SD519 / CF4 / 200 / No / No
Line 10 / SD519 / AR / 500 / No / No
Line 11 / SD519 / HE / 300 / No / No
Line 12 / - / No gas / - / No / No
Line 13 / - / No gas / - / No / No
Line 14 / - / No gas / - / No / No
Line 15 / - / No gas / - / No / No
Line 16 / - / No gas / - / No / No.
LAM RESEARCH 2300 Versys Metal est un graveur et asher de pointe conçu spécialement pour les couches métalliques dans les procédés avancés de fabrication de semi-conducteurs. Cet équipement intègre une technologie innovante et des caractéristiques pour offrir des performances de gravure et d'ashing précises et fiables pour des environnements de production à haut volume. Au cœur de 2300 Versys Metal se trouve sa capacité de procédé avancée, qui permet la gravure et le cendrage de différentes couches métalliques avec une homogénéité et une sélectivité exceptionnelles. Ce système est capable de manipuler une large gamme de métaux couramment utilisés dans la fabrication de semi-conducteurs, y compris l'aluminium, le cuivre, le titane et le tungstène. La polyvalence des processus de LAM RESEARCH 2300 Versys Metal le rend bien adapté à une variété d'applications, telles que la gravure de grille métallique, la fixation de contact métallique et l'enlèvement de métal dans les dispositifs logiques et de mémoire avancés. Les composants clés de 2300 Versys Metal comprennent une source de plasma haute performance, une unité de distribution de gaz avancée, une plate-forme de manipulation de substrat de précision et un logiciel intuitif de contrôle des processus. La source de plasma génère un plasma très réactif qui permet une gravure et une cueillette efficaces des couches métalliques, tandis que la machine de distribution de gaz contrôle le débit et la composition des gaz de procédé pour obtenir des conditions de processus optimales. La plate-forme de traitement des substrats de précision assure un alignement et un contrôle précis des plaquettes pendant le traitement, tandis que le logiciel de contrôle des processus fournit une interface conviviale pour le développement de recettes, la surveillance des processus et l'analyse des données. L'une des caractéristiques remarquables de LAM RESEARCH 2300 Versys Metal est sa capacité avancée de détection d'endpoint, qui permet de surveiller en temps réel le processus de gravure et d'ashing pour obtenir un contrôle précis des endpoints de processus. Cette caractéristique est essentielle pour assurer l'uniformité et la répétabilité de la gravure et de la cendre des couches métalliques, car elle permet à l'outil d'arrêter automatiquement le processus une fois que le point final souhaité est atteint. En outre, l'actif est équipé de capacités avancées de nettoyage des chambres pour maintenir la propreté des processus et prévenir la contamination croisée entre les différentes couches métalliques. 2300 Versys Metal est conçu avec la productivité et la rentabilité en tête, avec un haut débit et un faible coût de propriété. Ce modèle est capable de traiter un grand nombre de plaquettes par heure, ce qui le rend idéal pour les environnements de production à haut volume. L'équipement intègre également des technologies économes en énergie afin de minimiser la consommation d'énergie et de réduire les coûts d'exploitation pendant toute la durée de vie de l'équipement. En résumé, LAM RESEARCH 2300 Versys Metal est un système de graveur et d'asher à la fine pointe de la technologie conçu pour le traitement des couches métalliques dans la fabrication avancée de semi-conducteurs. Grâce à sa capacité de procédé avancée, à ses fonctions de contrôle de précision et à ses performances élevées en matière de débit, cette unité fournit aux fabricants de semi-conducteurs une solution fiable et rentable pour la gravure et l'ashing des couches métalliques dans les dispositifs semi-conducteurs de pointe.
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