Occasion LAM RESEARCH 2300 Versys #9007779 à vendre en France

LAM RESEARCH 2300 Versys
ID: 9007779
Metal Etcher, 12" Application: M1/M2 Al Etch Chambers: (2) Metal Etch CH + (2) Ash/Strip CH Install Type: Stand-Alone System Software (ver.): 1.7.2sp2HF4-CST-5 Factory Interface/Automation: Interface: (3) Carrier Stage (continuous flow operation) Brooks 300mm Load-Ports 25-Slot FOUPs (complies w/SEMI E47.1) Overhead Transport System (OHT) OHT PIO Sensors Wafer ID Reader: No WIDS, Bottom Read Carrier ID Reader: HERMOS RF Tag-Reader Main-Frame (M/F) / Transport Module (TM): Platform Type: Version 2 User Interface-1: Front side, Flat Panel Display User Interface-2: System side, Flat Panel Display GEM/CIM JGJ: Ethernet 100BaseT Status Lamp: (2) R/Y/G/B 1: Front side (FI), Upper-Left 2: Tool side, Upper-Right EMOs: (2) Front, (2) Rear Conditioning Stage: 4-Slot Cooling Station Heated Fore-lines Dual Drop Sub-Panel UPS on System GFI Main CB TM Gas Box: 12-Line Enhanced Gas Box Tool Fab Interlocks: Gas Box Door (Local) Fab Fab Gas Box Iso-Valves Utility Box: Regulators: CDA: SMC AR2500 N2: Veriflo SQ-420E He: Veriflo SQ-Micro Manual Valve: OGD20V-6RM-K / OGD10V-4RM-K (CKD) Pressure Gauge: Bourdon Gauge De-installed 2006 vintage.
LAM RESEARCH SERIES LAM RESEARCH 2300 Versys est un équipement de gravure/gravure sophistiqué conçu pour répondre aux besoins de l'industrie des semi-conducteurs. Avec un large éventail de modules de processus, ce système est capable d'effectuer des tâches critiques de gravure et de gravure dans la production de dispositifs semi-conducteurs modernes. 2300 Versys est équipé d'une chambre de process très fiable et robuste et de commandes intelligentes. Cette chambre de procédé est scellée et n'a aucune exposition à l'atmosphère extérieure pour assurer un environnement propre et pur pour la gravure et le couchage des matériaux. En outre, la chambre comporte une unité de plomberie à base d'azote qui permet la répartition subsonique des gaz de procédé dans toute la chambre assurant un dépôt uniforme des matériaux. LAM RESEARCH 2300 La source de plasma à distance avancée de Versys et la capacité de gravure ionique réactive permettent un contrôle de haute précision sur la vitesse de gravure, la taille, la gravure et l'uniformité, et résistent au chargement et à l'enlèvement. De plus, les capacités d'évacuation et de remblayage à plusieurs chambres permettent de contenir complètement les sous-produits de gravure, réduisant ainsi la contamination. En outre, les capacités de contrôle automatisé des processus de la machine permettent un réglage et un basculement rapides sans réglage manuel. En outre, grâce à la capacité complète de suivi et de diagnostic des processus, le rendement et la qualité des processus peuvent être optimisés ainsi que la fiabilité et la disponibilité améliorées. En outre, l'ordinateur de contrôle de processus avancé (APCC) de 2300 Versys permet le suivi et l'enregistrement complet des paramètres et des résultats de la recette de processus, tout en fournissant des capacités d'acquisition et de manipulation de données en temps réel. L'APCC dispose également d'une alimentation intégrée et l'ordinateur central dispose d'une grande variété de modules pour permettre l'interface avec une multitude d'outils de processus. En conclusion, LAM RESEARCH 2300 Versys est un outil de gravure/gravure très avancé avec des capacités sophistiquées de contrôle et de surveillance des processus. Avec sa chambre de processus très fiable et robuste et ses contrôles intelligents, cet atout permet une gravure et une gravure efficaces et fiables. En outre, cette plate-forme polyvalente alimente de nombreux outils de production, ce qui la rend parfaite pour les besoins modernes de production de semi-conducteurs.
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