Occasion LAM RESEARCH 2300 Versys #9008862 à vendre en France

LAM RESEARCH 2300 Versys
ID: 9008862
Metal etcher, 12" Install Type: Stand-Alone Application: M1/M2 Al Etch System Software (ver.): 1.7.2sp2HF4-CST-5 Chambers: (2) Metal Etch CH + (2) Ash/Strip CH Factory Interface/Automation: Interface: (3) Carrier Stage (continuous flow operation) Brooks 300mm Load-Ports 25-Slot FOUPs (complies w/SEMI E47.1) Overhead Transport System (OHT) OHT PIO Sensors Wafer ID Reader: No WIDS, Bottom Read Carrier ID Reader: HERMOS RF Tag-Reader Main-Frame (M/F) / Transport Module (TM): Platform Type: Version 2 User Interface-1: Front side, Flat Panel Display User Interface-2: System side, Flat Panel Display GEM/CIM JGJ: Ethernet 100BaseT Status Lamp: (2) R/Y/G/B 1: Front side (FI), Upper-Left 2: Tool side, Upper-Right EMOs: (2) Front, (2) Rear Conditioning Stage: 4-Slot Cooling Station Heated Fore-lines Dual Drop Sub-Panel UPS on System GFI Main CB TM Gas Box: 12-Line Enhanced Gas Box Tool Fab Interlocks: Gas Box Door (Local) Fab Fab Gas Box Iso-Valves Utility Box: Regulators: CDA: SMC AR2500 N2: Veriflo SQ-420E He: Veriflo SQ-Micro Manual Valve: OGD20V-6RM-K / OGD10V-4RM-K (CKD) Pressure Gauge: Bourdon Gauge De-installed by OEM 2006 vintage.
LAM RESEARCH VErsys 2300 etcher/asher est un équipement de graveur et asher haut de gamme qui est idéal pour les applications de gravure et de nettoyage des procédés dans l'industrie des semi-conducteurs. Le Versys 2300 dispose d'une chambre de procédé découplée de puissance avancée qui fournit une large gamme de flux de pression, de température et de gaz pour répondre à tous les besoins de gravure et de nettoyage. Le Versys 2300 dispose également d'une chambre de verrouillage de charge intégrée et d'une source de plasma à distance, permettant un chargement et un déchargement rapides et efficaces des plaquettes, ainsi que l'utilisation de procédés à basse et haute température. Le Versys 2300 dispose de la conception brevetée de modulation thermique de LAM qui fournit un contrôle optimal pour l'uniformité et la répétabilité de la température. Cette fonctionnalité en fait l'un des systèmes de gravure/cueillette les plus fiables de l'industrie, car elle améliore la précision du contrôle des processus et garantit des résultats cohérents et reproductibles. Le Versys 2300 dispose également de deux types de sources de plasma : une source de plasma à distance (RPS) et un système de torche à plasma (PTS). La source de plasma à distance utilise une fenêtre à quartz pour contenir le plasma et est capable de niveaux de puissance plus élevés, tandis que l'unité de torche à plasma il plus fiable et produit des résultats plus cohérents à des niveaux de puissance faibles. Le Versys 2300 dispose également d'une machine avancée d'automatisation de processus appelée SES (Smart Etcher Tool). Cet atout permet une automatisation complète du processus de gravure et de nettoyage avec une entrée minimale de l'opérateur, ce qui réduit considérablement le risque d'erreur humaine. En outre, le modèle peut être configuré avec une variété d'options logicielles et de recettes personnalisées pour répondre à de multiples exigences de processus. Le Versys 2300 est également livré avec les outils de diagnostic IA innovants de LAM, permettant aux utilisateurs d'accéder à la surveillance en temps réel de leurs équipements et des informations de processus. Cela permet aux utilisateurs d'identifier rapidement et facilement les problèmes de processus et d'apporter des corrections au besoin. Le Versys 2300 est un équipement fiable et efficace qui est parfait pour toute application de gravure et de nettoyage dans l'industrie des semi-conducteurs.
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