Occasion LAM RESEARCH 2300 Versys #9008862 à vendre en France
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ID: 9008862
Metal etcher, 12"
Install Type: Stand-Alone
Application: M1/M2 Al Etch
System Software (ver.): 1.7.2sp2HF4-CST-5
Chambers: (2) Metal Etch CH + (2) Ash/Strip CH
Factory Interface/Automation:
Interface: (3) Carrier Stage (continuous flow operation)
Brooks 300mm Load-Ports
25-Slot FOUPs (complies w/SEMI E47.1)
Overhead Transport System (OHT)
OHT PIO Sensors
Wafer ID Reader: No WIDS, Bottom Read
Carrier ID Reader: HERMOS RF Tag-Reader
Main-Frame (M/F) / Transport Module (TM):
Platform Type: Version 2
User Interface-1: Front side, Flat Panel Display
User Interface-2: System side, Flat Panel Display
GEM/CIM JGJ: Ethernet 100BaseT
Status Lamp: (2) R/Y/G/B
1: Front side (FI), Upper-Left
2: Tool side, Upper-Right
EMOs: (2) Front, (2) Rear
Conditioning Stage: 4-Slot Cooling Station
Heated Fore-lines
Dual Drop Sub-Panel
UPS on System
GFI Main CB
TM Gas Box: 12-Line Enhanced Gas Box
Tool Fab Interlocks:
Gas Box Door (Local) Fab
Fab Gas Box Iso-Valves
Utility Box:
Regulators:
CDA: SMC AR2500
N2: Veriflo SQ-420E
He: Veriflo SQ-Micro
Manual Valve: OGD20V-6RM-K / OGD10V-4RM-K (CKD)
Pressure Gauge: Bourdon Gauge
De-installed by OEM
2006 vintage.
LAM RESEARCH VErsys 2300 etcher/asher est un équipement de graveur et asher haut de gamme qui est idéal pour les applications de gravure et de nettoyage des procédés dans l'industrie des semi-conducteurs. Le Versys 2300 dispose d'une chambre de procédé découplée de puissance avancée qui fournit une large gamme de flux de pression, de température et de gaz pour répondre à tous les besoins de gravure et de nettoyage. Le Versys 2300 dispose également d'une chambre de verrouillage de charge intégrée et d'une source de plasma à distance, permettant un chargement et un déchargement rapides et efficaces des plaquettes, ainsi que l'utilisation de procédés à basse et haute température. Le Versys 2300 dispose de la conception brevetée de modulation thermique de LAM qui fournit un contrôle optimal pour l'uniformité et la répétabilité de la température. Cette fonctionnalité en fait l'un des systèmes de gravure/cueillette les plus fiables de l'industrie, car elle améliore la précision du contrôle des processus et garantit des résultats cohérents et reproductibles. Le Versys 2300 dispose également de deux types de sources de plasma : une source de plasma à distance (RPS) et un système de torche à plasma (PTS). La source de plasma à distance utilise une fenêtre à quartz pour contenir le plasma et est capable de niveaux de puissance plus élevés, tandis que l'unité de torche à plasma il plus fiable et produit des résultats plus cohérents à des niveaux de puissance faibles. Le Versys 2300 dispose également d'une machine avancée d'automatisation de processus appelée SES (Smart Etcher Tool). Cet atout permet une automatisation complète du processus de gravure et de nettoyage avec une entrée minimale de l'opérateur, ce qui réduit considérablement le risque d'erreur humaine. En outre, le modèle peut être configuré avec une variété d'options logicielles et de recettes personnalisées pour répondre à de multiples exigences de processus. Le Versys 2300 est également livré avec les outils de diagnostic IA innovants de LAM, permettant aux utilisateurs d'accéder à la surveillance en temps réel de leurs équipements et des informations de processus. Cela permet aux utilisateurs d'identifier rapidement et facilement les problèmes de processus et d'apporter des corrections au besoin. Le Versys 2300 est un équipement fiable et efficace qui est parfait pour toute application de gravure et de nettoyage dans l'industrie des semi-conducteurs.
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