Occasion LAM RESEARCH 2300 Versys #9101595 à vendre en France
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Vendu
ID: 9101595
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2008
Polysilicon etcher, 12"
Conducting layer dry etching system
23PM, MW 1PM System
(4) Chambers
2300 Transport module
(3) 2300 Kiyo45 etch process module
2300 Micro wave strip process module
(3) LSR Endpoint
Gas system:
Gas interface box, 3PM (IGS GB)
(3) 9 Gas configuration
(3) Additional gas line (AGS)/total 16 lines
(3) Two heated gas line
US option:
System UPS circuity
Seismic bracket (TM/PM/MWS)
System weight dispersion plate (for TM/PM/RPM)
ELB with ring lug - Qty 1
(3) Keyence BCR carrier ID
User interface: side monitor UI
(25) Slot input buffer station
Japanese safety label
Intermitted Buzzer
ULPA filter interlock
Service step for PM
(3) FOUP Config.
Additional gas line for MWS
(3) Label for gas name and flow direction
(3) Duct manifold exhaust PM to GB
Chamber A:
Chamber type:MWS
Gas config. (sccm)=MFC full scale
N2(1000), O2(5000), H2/N2(2000)
MW 2.45GHz, max 3000W
Stage heater max 300°C
Chamber B:
Chamber type:Kiyo45
Gas config. (sccm)=MFC full scale
SiCL4(100), CF4(300), CL2(200), NF3(500),
HBr(500), NF3(50), CH2F2(100), CHF3(300),
SF6(50), N2(100), O2(30), O2(500),
Ar(500), He(500)
Source 13.56MHz, max 1500W
Bias 13.56MHz, max 1500W
Stage heater max 70°C
Chamber C:
Chamber type:Kiyo45
Gas config. (sccm)=MFC full scale
SiCL4(100), CF4(300), CL2(200), NF3(500),
HBr(500), NF3(50), CH2F2(100), CHF3(300),
SF6(50), N2(100), O2(30), O2(500),
Ar(500), He(500)
Source 13.56MHz, max 1500W
Bias 13.56MHz, max 1500W
Stage heater max 70°C
Chamber D:
Chamber type:Kiyo45
Gas config. (sccm)=MFC full scale
SiCL4(100), CF4(300), CL2(200), NF3(500),
HBr(500), NF3(50), CH2F2(100), CHF3(300),
SF6(50), N2(100), O2(30), O2(500),
Ar(500), He(500)
Source 13.56MHz, max 1500W
Bias 13.56MHz, max 1500W
Stage heater max 70°C
Damaged/missing parts:
PM1 MW Generator, ASTEX FI20160-3
PM3 TMP Controller , Edwards SCU-1500
PM4 TMP Controller, Edwards SCU-1500
2008 vintage.
LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo 45 est un équipement de gravure/cendres conçu pour améliorer l'automatisation et la performance des procédés dans le processus de fabrication des semi-conducteurs d'aujourd'hui. Les outils LAM RESEARCH 2300 VERSYS KIYO45 offrent une solution fiable, puissante et efficace pour la gravure plasma et la gravure ionique réactive (cendres) des matériaux à base de silicium. Les capacités d'automatisation améliorées de ces outils les rendent idéales pour le traitement par lots à haut débit de plaquettes avec des temps de parcours typiques de moins de deux minutes. 2300 Le système de gravure/cendres Versys Kiyo 45 utilise un laser pompé par diode afin de fournir une concentration hautement contrôlée d'ions réactifs pour les processus de gravure et de cendres. Le laser de haute puissance est capable de produire des gaz à faible teneur en halogénure d'hydrogène ou en hélium-oxygène (HEOM) pour rompre les liaisons chimiques et éliminer les couches de matériaux des plaquettes avec une grande précision. Le processus de gravure/cendres est effectué en contrôlant la température, la pression, les concentrations de réactif et le niveau de puissance du laser. Cela permet d'obtenir des résultats très précis et reproductibles à chaque fois. 2300 VERSYS KIYO45 possède trois chambres principales, dont une chambre de gravure, une chambre de cendres et une chambre de purge. La chambre de gravure utilise une source de plasma pour générer les ions réactifs, tandis que la chambre de cendres utilise une technique de vide pour déposer une fine couche de matériau passivant sur la plaquette. Les deux chambres utilisent des systèmes indépendants de contrôle de pression et de profilage de température pour garantir des résultats reproductibles et fiables. La chambre de purge est conçue pour nettoyer rapidement les chambres entre les cycles de processus, ce qui permet des temps de traitement des lots plus rapides. LAM RESEARCH 2300 Versys Kiyo 45 est également équipé de systèmes de sécurité avancés, y compris une unité d'auto-test qui évalue la santé de la machine et répare les erreurs avant le début du processus. L'enceinte de protection de la machine comprend également des systèmes de détection d'incendie et de gaz, une protection antistatique, une surveillance de la température de l'air et des systèmes d'arrêt d'urgence. LAM RESEARCH 2300 VERSYS KIYO45 fournit une solution efficace et fiable pour les processus de gravure/cendres, permettant la fabrication à haut débit de dispositifs semi-conducteurs.
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