Occasion LAM RESEARCH 2300 Versys #9195904 à vendre en France
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ID: 9195904
Reactive Ion Etch (RIE) system
Process: Metal etch
Integrated Circuit (IC)
Wires and electrical connections
Metal Hard Mask (MHM)
Typical mask
Flexible platform
Controlling repeatable profiles
Critical Dimensions (CD)
BEOL Metal etching
MHM Increase selectivity of low-dielectric insulating films
With BEOL integration
Controlling trench dimensions and roughness bottom line
Interfere with productivity and compensating power
Metal Hard Mask (MHM) (TiN)
High density aluminum line
Aluminum pad.
LAM RESEARCH 2300 Versys est un graveur/asher avancé conçu pour les applications de gravure à haut débit DRIE (Deep Reactive Ion Etch) et ICP (Inductively Coupled Plasma). Cet etcher est doté d'une chambre diélectrique et d'un système de contrôle avancé, ce qui en fait le choix idéal pour les environnements de production à haut débit. Le système de contrôle d'alimentation de 2300 Versys garantit une grande uniformité du processus de gravure, permettant des processus de production lisses et reproductibles. Il est également livré avec des capteurs haute résolution pour surveiller les paramètres critiques du processus de gravure, permettant un contrôle fin tout au long du processus. LAM RESEARCH 2300 Versys est bien adapté pour les applications DRIE, car il est capable d'atteindre des taux de gravure élevés et des profils latéraux lisses qui sont idéales pour la gravure agressive des matériaux diélectriques. Il présente un débit de gaz uniforme dans l'environnement de gravure, ce qui permet un contrôle précis de la vitesse de gravure, ainsi que des résultats reproductibles. 2300 Versys offre également des options de source de haute fréquence radio (RF), y compris des sources pour la gravure ICP. Cela permet d'effectuer successivement des cycles de processus DRIE et PIC, ce qui augmente la flexibilité et l'efficacité des processus. En outre, LAM RESEARCH 2300 Versys peut facilement être intégré dans des environnements de production automatisés à grande échelle, permettant des applications de gravure à grande échelle. Au total, 2300 Versys est un graveur/asher avancé à haut débit conçu pour les applications ICP et DRIE. Cet etcher offre des processus de gravure précis et reproductibles grâce à son système de contrôle avancé de l'alimentation, un débit de gaz uniforme et des options de source RF de grande puissance. En outre, il peut facilement être intégré dans des environnements de production automatisés à grande échelle, ce qui en fait un choix idéal pour les applications de gravure à haut débit.
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