Occasion LAM RESEARCH 2300 Versys #9251504 à vendre en France
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ID: 9251504
Taille de la plaquette: 8"
Style Vintage: 2004
Dry etcher, 8"
2004 vintage.
LAM RESEARCH 2300 Versys est un équipement de gravure et de traitement des cendres haut de gamme conçu pour répondre aux exigences rigoureuses des processus de fabrication complexes d'IC d'aujourd'hui. 2300 Versys dispose d'un nouveau processeur de pointe pour augmenter le débit, la flexibilité des processus et améliorer les performances. LAM RESEARCH 2300 Versys comprend un ensemble de suscepteurs double face avec une pompe moléculaire à turbo à vide haute mise à niveau qui fournit un temps de pompage rapide et une expansion uniforme des gaz de procédé sur de grands substrats. Il est capable de traiter de grands substrats avec une taille maximale de plaquette de 300mm, ce qui en fait un outil idéal pour une production de volume élevé. 2300 Versys offre des capacités avancées de contrôle des processus, avec son système d'automatisation de pointe qui permet une programmation utilisateur facile, la formation de recettes et le paramétrage. L'unité comprend un large éventail de capacités de processus, y compris la gravure, RIE (gravure ionique réactive), IBE (gravure par faisceau ionique), gravure humide et cendres. La capacité en cendres est basée sur la technologie brevetée d'oxyde thermique multi-zones (MTO2) qui permet une croissance d'oxyde très uniforme et répétable sur de grands substrats. En plus de sa machine de contrôle automatisé, LAM RESEARCH 2300 Versys offre également des options de surveillance in situ avancées, y compris des détecteurs multi-gaz, spectroscopie d'émission optique et réflectométrie hémisphérique. Ses capacités de surveillance in situ permettent de mesurer avec précision les paramètres du processus et de garantir la qualité de la production. 2300 Versys dispose également d'un certain nombre d'améliorations de processus, comme un processus breveté de remplissage des lacunes et des profils améliorés de gravure profonde. Il est conçu pour répondre aux exigences dimensionnelles les plus strictes et est compatible avec une large gamme de matériaux de film électriquement résistants et conducteurs. L'outil est configuré avec un processus intégré PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) qui peut permettre un contrôle amélioré de la largeur de ligne. Pour augmenter le rendement de production et améliorer le débit, LAM RESEARCH 2300 Versys est disponible avec une configuration d'outil de grappes, combinant l'actif gravure et cendres avec d'autres modules comme CPVD (Chemical Plasma Vapor Deposition), ALD (Atomic Layer Deposition), gravure chimique et revêtement conforme. Le modèle est disponible avec plusieurs options de production supplémentaires, comme le loadlock automatisé et les manutentionneurs automatisés de cassettes ainsi que la surveillance des échantillons de processus en option et la surveillance de la réflectance de la tranche complète. En résumé, 2300 Versys est un équipement de gravure et de cendres haute performance, conçu pour répondre aux exigences élevées de production et de processus de fabrication d'IC complexe d'aujourd'hui. Il offre des capacités avancées de contrôle des procédés, un débit accru et une stoechiométrie uniforme sur de grands substrats, ainsi qu'un large éventail d'options de production et de surveillance in situ pour garantir la qualité des procédés et de la production.
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