Occasion LAM RESEARCH 2300e4 Flex DX #293592612 à vendre en France
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ID: 293592612
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2015
Oxide etcher, 12"
2015 vintage.
LAM RESEARCH 2300e4 Flex DX est un graveur/asher conçu pour la fabrication de semi-conducteurs. L'équipement est une gravure/cendres compacte et performante, capable de traiter une grande variété d'applications. Sa conception compatible avec la salle blanche et son contrôle rapide des processus en font un choix idéal pour la gravure/cueillette de diélectrique, de silicium polycristallin et de résine photosensible. Le système offre également des résultats précis et reproductibles pour les applications de gravure/ashing. 2300e4 Flex DX est une unité multi-gaz, multi-chambre graveur/asher qui permet aux utilisateurs de personnaliser les paramètres de processus en fonction de leurs besoins spécifiques. Il est compatible avec une variété de matériaux, et est capable de processus de gravure/ashing qui nécessitent des chambres de haute puissance et des paramètres flexibles. La machine permet aux utilisateurs d'ajuster rapidement et avec précision les variables de processus telles que la pression de la chambre, la puissance RF et le temps de réaction. Le 2300e4 dispose également d'un outil de cartographie automatisé qui permet aux utilisateurs de sélectionner et de contrôler plusieurs types de gaz et les temps de séjour des chambres. L'actif offre une plate-forme haute performance qui peut atteindre des taux de gravure cibles en secondes, tout en fournissant constamment des résultats reproductibles. Ceci en fait un choix idéal pour les procédés dans lesquels l'épaisseur de la gravure est critique et la variation du procédé doit être minimisée. Le 2300e4 prend également en charge une large gamme de tailles de processus et de configurations, permettant aux utilisateurs d'ajuster le taux de gravure selon les besoins. LAM RESEARCH 2300e4 Flex DX offre une excellente combinaison de performance, de flexibilité et de sécurité. Sa conception robuste, son contrôle automatisé des processus et sa large gamme de configurations de processus supportées en font un choix idéal pour les utilisateurs de l'industrie des semi-conducteurs. Sa capacité à ajuster rapidement et avec précision les variables de processus permet aux utilisateurs d'obtenir des résultats de gravure précis et reproductibles.
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