Occasion LAM RESEARCH 2300e4 Kiyo EX #293619084 à vendre en France
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Vendu
ID: 293619084
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2012
Poly etcher, 12"
(3) Load ports
SEMI Wafer
Cassette type: 25-Slots
Gas box type: Jetstream
2300 Platform
Chamber type: Versys Kiyo E Series
2300 Versys Kiyo E Series
PTK Chamber
Temperature controlled window
HP Crystal window
Coated ceramic injector
Standard bayonet style injector shield
Gas weldment with coated
Standard injector shield
Enhanced plasma screen
SRC Enhanced grounded liner
Top and side gas feed
TCP Source: Plasma 2000 W
Enhanced TCP Coil support:
Bias match: 1.5 kW HVBP
Electrostatic chuck: EPX ERMZ
ESC Facility plate: Pl with routing
ESC Hose kit: Low temperature
Wafer lift mechanism: Prime movers
Voltage control interface: 1200 V
High bias kit
Single piece QUARTZ edge ring
Turbo pump, 12"
OES2 Endpoint detection
Standard chamber viewport window
Heated foreline clamp cover
Chamber isolation valve: Barrier seal door
Vacuum valve: Viton
Lower isolation valve: Valqua
Chamber manometer
UPC Enhanced
Water control: Passive RF PCW control
PCW Hoses: Chemical resistant
Exhaust duct: Reduced profile
Standard service cover
Pump to TCU, 50 ft
TCU to PM, 100 ft
Interconnect: Pump to PM, 100 ft
TCU to RPDB, 25 ft
Pump to RPDB, 25 ft
Regulated inlet gas panel
Gas system:
Jetstream
Mounting location: Transport module
Window door
Lock-out tag-out manual valve
FIB Facilitization
Facility box:
Top gas connection
Enhanced containment
Regulated with filter regulation
Nickel filter
SST Filter
Future PM: 4 Positions
Jetstream gases of 2302 Kiyo E Series:
Tuning gas
Heated lines position 1 and 2
Gas no / Gas / MFC Size / MFC Model
1 / SiCL4 / 100 SCCM / STEC Z719
2 / CL2 / 500 SCCM / STEC D219
3 / HBr / 500 SCCM / STEC D219
4 / CF4 / 400 SCCM / STEC D219
5 / BCl3 / 200 SCCM / MFC Z719
6 / He / 500 SCCM / STEC D219
7 / CH2F2 / 200 SCCM / STEC D219
8 / Ar / 1000 SCCM / STEC D219
9 / 30%HE/O2 / 50 SCCM / STEC D219
10 / NF3 / 1000 SCCM / STEC D219
11 / N2 / 250 SCCM / STEC D219
12 / SO2 / 200 SCCM / MFC D219
13 / SF6 / 200 SCCM / STEC D219
14 / CHF3 / 200 SCCM / MFC D219
15 / O2 / 500 SCCM / STEC D219
17 / C4F6 / 200 SCCM / MFC D219
ATM:
Front end load port: 3 FOUP BROOKS
Cassette ID: Hermos carrier ID
Factory automation: OHT PIO Sensor
Input buffer station: 25-Slot
CTC Computer storage: Hard Disk Drive (HDD) mirrored
VTM Load lock A and B: Standard
RPDB Subpanel
R-O-G-B Signal tower
Pre-facilities:
PM Peripherals backing pumps: ESR100WN
RPDB Backing pump CB Size: 30 A
TCU CB Size: 30A
TCU YR-8020
2300 Versys Kiyo E Series process module (PM1, PM2, PM3 and PM4): SiCl4, Cl2, HBr, CF4, He, Ar, CH2F2, 30%He/O2, NF3, N2, SO2, SF6, CHF3, O2
Does not include:
Dry pumps
Hard Disk Drive (HDD)
Power supply: 208 AC, 3 Phase
2012 vintage.
LAM RESEARCH 2300e4 Kiyo EX est un graveur/asher haute performance conçu pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. C'est un outil robuste capable de graver et d'aspirer une variété de matériaux, y compris le silicium, le dioxyde de silicium, l'aluminium et le tungstène, à des températures allant jusqu'à 1000 degrés Celsius. 2300e4 Kiyo EX fonctionne dans deux configurations principales : l'adaptation d'impédance RF et la gravure/cendres pré-configurée. En mode d'adaptation d'impédance RF, il peut traiter six types de substrat et offre un traitement à haut rendement et à faible coût. Il est équipé d'un générateur de radiofréquence qui produit des résultats très précis et reproductibles. Il dispose également d'un dispositif de pression intégré qui maintient les gaz de processus aux conditions de pression optimales. En mode gravure/cendres pré-configuré, LAM RESEARCH 2300e4 Kiyo EX dispose de plusieurs fonctionnalités avancées, telles que l'optique avancée du faisceau d'ions, les systèmes de contrôle de plasma multi-chambres et une grille de chambre en carbure de silicium. L'optique avancée du faisceau d'ions améliore le contrôle du processus et la précision du profil, tandis que les systèmes de contrôle plasma multi-chambres offrent une flexibilité pour les recettes de gravure et de cendres. De plus, la grille de la chambre de carbure de silicium permet à l'utilisateur de gérer les réactions plasmatiques et de réduire les débris. En plus des capacités de gravure/cendres, 2300e4 Kiyo EX offre également un équipement de mesure de profil de haute précision. Ce système permet aux utilisateurs de surveiller le profil de gravure/cendres avec une haute résolution afin d'assurer un processus de qualité constante. Pour améliorer encore ses capacités de gravure/cendres, LAM RESEARCH 2300e4 Kiyo EX contient un régulateur de température qui permet un contrôle précis de la température pour le dépôt et la gravure. Il dispose également de capacités d'enregistrement et de stockage de données numériques, d'un contrôleur programmable pour l'optimisation des recettes et d'un support de test auto-diagnostique pour la maintenance de l'unité. 2300e4 Kiyo EX est un graveur/asher fiable et efficace conçu pour la production de dispositifs semi-conducteurs de haute qualité. Il offre une optique de faisceau d'ions avancée et des capacités de contrôle de la température, une machine de mesure de profil haute précision, des capacités d'enregistrement et de stockage de données numériques, un contrôleur programmable pour l'optimisation des recettes, et un stand de test auto-diagnostic pour la maintenance des outils. Avec ses caractéristiques robustes et sa facilité d'utilisation, LAM RESEARCH 2300e4 Kiyo EX est un excellent choix pour toute installation de fabrication de dispositifs semi-conducteurs.
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