Occasion LAM RESEARCH 2300e4 Kiyo EX #293619084 à vendre en France

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ID: 293619084
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2012
Poly etcher, 12" (3) Load ports SEMI Wafer Cassette type: 25-Slots Gas box type: Jetstream 2300 Platform Chamber type: Versys Kiyo E Series 2300 Versys Kiyo E Series PTK Chamber Temperature controlled window HP Crystal window Coated ceramic injector Standard bayonet style injector shield Gas weldment with coated Standard injector shield Enhanced plasma screen SRC Enhanced grounded liner Top and side gas feed TCP Source: Plasma 2000 W Enhanced TCP Coil support: Bias match: 1.5 kW HVBP Electrostatic chuck: EPX ERMZ ESC Facility plate: Pl with routing ESC Hose kit: Low temperature Wafer lift mechanism: Prime movers Voltage control interface: 1200 V High bias kit Single piece QUARTZ edge ring Turbo pump, 12" OES2 Endpoint detection Standard chamber viewport window Heated foreline clamp cover Chamber isolation valve: Barrier seal door Vacuum valve: Viton Lower isolation valve: Valqua Chamber manometer UPC Enhanced Water control: Passive RF PCW control PCW Hoses: Chemical resistant Exhaust duct: Reduced profile Standard service cover Pump to TCU, 50 ft TCU to PM, 100 ft Interconnect: Pump to PM, 100 ft TCU to RPDB, 25 ft Pump to RPDB, 25 ft Regulated inlet gas panel Gas system: Jetstream Mounting location: Transport module Window door Lock-out tag-out manual valve FIB Facilitization Facility box: Top gas connection Enhanced containment Regulated with filter regulation Nickel filter SST Filter Future PM: 4 Positions Jetstream gases of 2302 Kiyo E Series: Tuning gas Heated lines position 1 and 2 Gas no / Gas / MFC Size / MFC Model 1 / SiCL4 / 100 SCCM / STEC Z719 2 / CL2 / 500 SCCM / STEC D219 3 / HBr / 500 SCCM / STEC D219 4 / CF4 / 400 SCCM / STEC D219 5 / BCl3 / 200 SCCM / MFC Z719 6 / He / 500 SCCM / STEC D219 7 / CH2F2 / 200 SCCM / STEC D219 8 / Ar / 1000 SCCM / STEC D219 9 / 30%HE/O2 / 50 SCCM / STEC D219 10 / NF3 / 1000 SCCM / STEC D219 11 / N2 / 250 SCCM / STEC D219 12 / SO2 / 200 SCCM / MFC D219 13 / SF6 / 200 SCCM / STEC D219 14 / CHF3 / 200 SCCM / MFC D219 15 / O2 / 500 SCCM / STEC D219 17 / C4F6 / 200 SCCM / MFC D219 ATM: Front end load port: 3 FOUP BROOKS Cassette ID: Hermos carrier ID Factory automation: OHT PIO Sensor Input buffer station: 25-Slot CTC Computer storage: Hard Disk Drive (HDD) mirrored VTM Load lock A and B: Standard RPDB Subpanel R-O-G-B Signal tower Pre-facilities: PM Peripherals backing pumps: ESR100WN RPDB Backing pump CB Size: 30 A TCU CB Size: 30A TCU YR-8020 2300 Versys Kiyo E Series process module (PM1, PM2, PM3 and PM4): SiCl4, Cl2, HBr, CF4, He, Ar, CH2F2, 30%He/O2, NF3, N2, SO2, SF6, CHF3, O2 Does not include: Dry pumps Hard Disk Drive (HDD) Power supply: 208 AC, 3 Phase 2012 vintage.
LAM RESEARCH 2300e4 Kiyo EX est un graveur/asher haute performance conçu pour la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. C'est un outil robuste capable de graver et d'aspirer une variété de matériaux, y compris le silicium, le dioxyde de silicium, l'aluminium et le tungstène, à des températures allant jusqu'à 1000 degrés Celsius. 2300e4 Kiyo EX fonctionne dans deux configurations principales : l'adaptation d'impédance RF et la gravure/cendres pré-configurée. En mode d'adaptation d'impédance RF, il peut traiter six types de substrat et offre un traitement à haut rendement et à faible coût. Il est équipé d'un générateur de radiofréquence qui produit des résultats très précis et reproductibles. Il dispose également d'un dispositif de pression intégré qui maintient les gaz de processus aux conditions de pression optimales. En mode gravure/cendres pré-configuré, LAM RESEARCH 2300e4 Kiyo EX dispose de plusieurs fonctionnalités avancées, telles que l'optique avancée du faisceau d'ions, les systèmes de contrôle de plasma multi-chambres et une grille de chambre en carbure de silicium. L'optique avancée du faisceau d'ions améliore le contrôle du processus et la précision du profil, tandis que les systèmes de contrôle plasma multi-chambres offrent une flexibilité pour les recettes de gravure et de cendres. De plus, la grille de la chambre de carbure de silicium permet à l'utilisateur de gérer les réactions plasmatiques et de réduire les débris. En plus des capacités de gravure/cendres, 2300e4 Kiyo EX offre également un équipement de mesure de profil de haute précision. Ce système permet aux utilisateurs de surveiller le profil de gravure/cendres avec une haute résolution afin d'assurer un processus de qualité constante. Pour améliorer encore ses capacités de gravure/cendres, LAM RESEARCH 2300e4 Kiyo EX contient un régulateur de température qui permet un contrôle précis de la température pour le dépôt et la gravure. Il dispose également de capacités d'enregistrement et de stockage de données numériques, d'un contrôleur programmable pour l'optimisation des recettes et d'un support de test auto-diagnostique pour la maintenance de l'unité. 2300e4 Kiyo EX est un graveur/asher fiable et efficace conçu pour la production de dispositifs semi-conducteurs de haute qualité. Il offre une optique de faisceau d'ions avancée et des capacités de contrôle de la température, une machine de mesure de profil haute précision, des capacités d'enregistrement et de stockage de données numériques, un contrôleur programmable pour l'optimisation des recettes, et un stand de test auto-diagnostic pour la maintenance des outils. Avec ses caractéristiques robustes et sa facilité d'utilisation, LAM RESEARCH 2300e4 Kiyo EX est un excellent choix pour toute installation de fabrication de dispositifs semi-conducteurs.
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