Occasion LAM RESEARCH 2300e5 KIYO EXP Poly #293809868 à vendre en France

ID: 293809868
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2017
Etcher, 12" 3-FOUP TDK Light curtain with OHT/RGV 25-Slot aux buffer (corr res) Conditioning station (7 wafer) User interface: Side and front monitor UPS Circuitry Earth leakage breaker Cable: TM-Subpanel, 100 feet Signal light tower, r-o-g-b slim line VTM Pump: EDWARDS (EPX) Light curtain APCS SVID and Facility interface board VTM Breakout board/cover ATM Robot removal kit Light tower buzzer NSR10702, N2 Flow monitoring on UPC NSR101435,TM UPS Bypass kit with Maratho VTM Robot Lift Ionizer kit Robot CDM STRIP45 and OES Endpoint option Stainless steel with 5/8-1/2 reducer 2700 l/S BOCE Turbo pump Gas feed: Top and side Bias match: 1.5kW HVBP Sync NSR100999, Chamber exhaust duct NSR101420, FWD Build Kiyo EX for 173 LTC NSR101836, Kiyo EXP Chamber process manom NSR102151, NSR for Kiyo EXP PM Maint: Quick clean kit Gas box: (3) 9-Gas configurations (jetstream) (21) Jetstream gas line (9) Heated gas line AFVi JS Gas box (3) NSR100802, GL14 C4F8(100), TG1C4F6(100H) Facility interface box (system) (17) Facility interface boxes (per line) (2) Future PM Containments 2017 vintage.
LAM RESEARCH 2300e5 KIYO EXP Poly est un équipement de graveur/asher de pointe conçu pour le traitement précis et efficace des matériaux semi-conducteurs dans l'industrie de la microélectronique. Cet outil de pointe fait partie de la célèbre série 2300 de LAM RESEARCH, connue pour ses performances élevées, sa fiabilité et sa polyvalence dans les procédés de fabrication de semi-conducteurs. 2300e5 KIYO EXP Poly intègre une gamme de technologies et de fonctionnalités innovantes pour permettre un contrôle supérieur et une uniformité dans les processus de gravure et d'ashing. L'un de ses points saillants est la source de plasma à couplage inductif KIYO (ICP), qui fournit du plasma haute densité avec une stabilité et une répétabilité exceptionnelles du processus. Cette source de plasma avancée est cruciale pour obtenir des profils de gravure précis et une élimination uniforme des matériaux sur la surface de la plaquette. Le système est équipé d'une capacité de procédé étendue pour graver et aspirer divers matériaux, y compris des films polymériques couramment utilisés dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs. Sa flexibilité accrue permet d'optimiser une large gamme de chimiographies de gravure et de paramètres de recette pour répondre aux exigences spécifiques des différents modèles et matériaux d'appareils. LAM RESEARCH 2300e5 KIYO EXP Poly dispose d'un design de chambre hautement configurable avec plusieurs options de manutention de plaquettes, permettant une intégration transparente dans différents environnements de production et flux de travail de traitement. L'unité supporte à la fois les modes de traitement monobloc et par lots, offrant aux opérateurs la flexibilité de choisir l'approche la plus appropriée en fonction des exigences de débit et de processus. En termes de contrôle et de surveillance des processus, 2300e5 KIYO EXP Poly est équipé de capacités de détection d'endpoint avancées, d'outils de suivi des processus en temps réel et de fonctionnalités de réglage des recettes. Ces fonctionnalités permettent aux opérateurs de suivre l'avancement des processus de gravure/ashing en temps réel, d'apporter des ajustements aux paramètres de traitement à la volée et d'assurer des résultats cohérents et fiables de l'exécution à l'exécution. En outre, la machine est conçue avec un accent sur la productivité et le rapport coût-efficacité, intégrant des caractéristiques telles que des protocoles de nettoyage rapide des chambres, des systèmes de distribution de gaz efficaces, et des mécanismes d'auto-étalonnage. Ces améliorations contribuent à réduire les temps d'arrêt, à réduire les coûts d'entretien et à améliorer l'utilisation globale des outils dans les installations de fabrication de semi-conducteurs. En résumé, LAM RESEARCH 2300e5 KIYO EXP Poly est un outil de pointe de graveur/asher qui combine des technologies avancées de traitement du plasma, des configurations flexibles de chambres et des fonctions robustes de contrôle de processus pour fournir un traitement haute performance et fiable des matériaux polymériques dans la fabrication de semi-conducteurs. Avec son contrôle supérieur des processus, son excellente uniformité et ses capacités polyvalentes, cet outil est un atout précieux pour les entreprises de semi-conducteurs qui cherchent à obtenir des résultats de fabrication de haute qualité et à accélérer le développement de dispositifs de nouvelle génération.
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