Occasion LAM RESEARCH 2300e6 Kiyo EX #293631692 à vendre en France
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Vendu
ID: 293631692
Taille de la plaquette: 12"
Style Vintage: 2016
Polysilicon etcher, 12"
Does not include Hard Disk Drive (HDD)
2016 vintage.
LAM RESEARCH 2300e6 Kiyo EX est un équipement avancé de graveur/asher conçu pour la fabrication d'alumine de cuivre pour métal. Ce système est conçu avec une unité d'alignement mécanique qui rend possible un traitement avancé avec des capacités de fixation avancées. Il offre une large gamme d'options de procédés sûrs tels que la passivation chimique, la gravure des métaux et le nettoyage avancé. La machine comprend également plusieurs outils avancés de contrôle de processus tels que le contrôle de polarisation de substrat variable et le contrôle RF avancé. Il utilise un générateur RF de grande puissance qui offre une gamme de fréquences accordables de basse à plusieurs dizaines de kHz et une large gamme de fréquences de balayage. Il dispose de quatre sources de gaz indépendantes qui permettent à l'utilisateur de choisir parmi une variété de gaz de dépôt. En outre, il dispose de quatre bobines RF à double chaîne, d'un capteur de température PID et d'une boucle fermée RF amplitude et contrôle de puissance. L'outil etcher/asher dispose d'une électrode de 8 pouces pour une résolution et une uniformité plus élevées, avec une option optionnelle de 10 pouces 9 pouces et 11 pouces. Il a jusqu'à trois sources de gaz indépendantes, un conçu avec un corps en aluminium et un actif de positionnement avancé pour une plus grande fiabilité. En outre, l'unité est également équipée de capteurs de pression et de température, et d'un autocontrôle pour soutenir le fonctionnement de la salle blanche. Il dispose d'une unité de distribution de liquide, d'une unité de nettoyage de la chambre à vide et d'un modèle d'analyse du liquide de refroidissement. 2300e6 Équipement Kiyo EX est conçu pour être utilisé pour le développement d'applications les plus avancées dans la fabrication de semi-conducteurs. Ses caractéristiques comprennent une faible consommation de puissance, un support de substrat haut de gamme et un système RF avancé. L'unité permet aux utilisateurs de modeler les structures avancées de manière efficace et précise. Son large éventail d'options de procédé et de sources de gaz indépendantes en font un excellent choix pour les applications avancées de traitement de l'alumine métallique.
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