Occasion LAM RESEARCH 4400B #293747957 à vendre en France

LAM RESEARCH 4400B est un outil de graveur/asher utilisé dans la fabrication de microélectroniques et de semi-conducteurs. Il est spécifiquement utilisé pour exposer de la résine photosensible sur divers matériaux de substrat tels que des plaquettes de silicium et des feuilles de cuivre. L'outil offre une uniformité et une répétabilité supérieures en utilisant la technologie plasma de pointe pour fournir des résultats précis de gravure et de sélectivité de gravure. 4400B etcher/asher dispose d'une conception innovante à double chambre, qui fournit un contrôle optimal du plasma et une sélectivité supérieure des processus. L'outil comprend une chambre d'antenne d'entrée supérieure, qui est utilisée pour générer le plasma, et une chambre de tête de douche inférieure, qui est utilisée pour l'émission uniforme de gaz pour le processus de gravure proprement dit. La chambre d'antenne a une surface plane sans odeur de 6 pouces pour s'assurer qu'il n'y a pas de problèmes d'uniformité d'écran. De plus, la chambre supérieure dispose de deux sources de cyclostrobillation électronique, qui sont la source de courant alternatif haute fréquence pour le procédé. La chambre basse de LAM RESEARCH 4400B est la zone critique pour l'uniformité des processus. La chambre de la tête de douche contient une fonction de réglage de la concentration, qui assure un débit de gaz uniforme pendant le processus de gravure. Il dispose également d'un système d'absorption sonore pour réduire la réflexion et le bruit pendant le processus de gravure. 4400B etcher/asher est équipé d'un logiciel de contrôle de processus avancé pour contrôler le processus de gravure. Il peut effectuer des procédés avancés tels que la gravure anisotrope et la gravure sélective avec précision. L'outil peut également réaliser un dopage plasma, qui peut être utilisé pour améliorer les propriétés microstructures et électriques des matériaux de substrat. L'outil LAM RESEARCH 4400B est doté d'un design de haute fiabilité qui en fait un choix idéal pour une production à haut volume. L'outil est conçu pour fonctionner 24/7 et fournir une conception de débit supérieure. L'outil est également conçu pour un entretien facile, avec une source de plasma modulaire et un faible coût de possession. 4400B etcher/asher est un choix idéal pour une variété d'applications de fabrication de semi-conducteurs et de microélectronique. Il est conçu pour offrir des performances de processus supérieures sans compromettre la qualité, l'uniformité et le coût.