Occasion LAM RESEARCH 4420 XL #293758321 à vendre en France

LAM RESEARCH 4420 XL est un équipement de gravure/cendres conçu pour la gravure/cendrage de circuits complexes hautement intégrés. LAM RESEARCH 4420XL dispose d'une capacité avancée de gravure/cendres optimisée pour la gravure/cendrage de divers matériaux tels que les diélectriques low-k et FEOL, les résistances céramiques à couches épaisses, les films diélectriques à condensateurs et les molécules de films magnétiques. Il dispose de techniques avancées de gravure plasma/cendres qui permettent un contrôle précis et l'optimisation des profils gravure/cendres. 4420 XL est capable de fournir un taux de passage unique de gravure/cendres jusqu'à 50 000 débuts de plaquettes par heure, ainsi qu'un contrôle du processus sur les paramètres critiques de gravure/cendres, tels que la profondeur de gravure, la forme du profil et les résidus. 4420XL est construit autour d'un système avancé de gravure/cendres basé sur une plate-forme avancée de contrôle de gravure/cendres LAM RESEARCH SE-2 iX. Cette plate-forme fournit un contrôle avancé des paramètres du processus ainsi que du matériel standard comme le gaz et les composants électriques de l'unité. L'utilisation d'une plate-forme standardisée simplifie la configuration, l'accord et la maintenance de la machine de gravure/cendres. LAM RESEARCH 4420 XL est une solution rentable pour la gravure/cendres de circuits complexes. Il est équipé d'une variété de produits chimiques de procédé pour la gravure/cueillette de différents matériaux. LAM RESEARCH 4420XL comprend également un certain nombre de fonctions d'optimisation de processus telles qu'une vitesse de gravure ajustable, une modification de profil et une optimisation des gaz de processus. Il dispose également d'un bouclier plasma unique qui aide à minimiser l'impact des variations du débit de gaz, assurant ainsi des processus de gravure/cendres cohérents. 4420 XL offre également une technologie avancée de stabilisation post-gravure/cendres qui réduit les défauts de fin de processus. Ceci est obtenu en contrôlant les paramètres du processus gravure/cendres, tels que la température, la puissance RF et le débit. Ces paramètres de processus sont optimisés pour obtenir les meilleurs résultats en termes de déféctivité et de rendement. 4420XL comprend également une interface utilisateur de contrôle facile à utiliser qui fournit une configuration rapide et l'optimisation des processus. L'outil est également personnalisable grâce à des micrologiciels et des mises à jour logicielles, permettant aux utilisateurs d'adapter facilement LAM RESEARCH 4420 XL pour répondre à leurs exigences de processus spécifiques. Au total, LAM RESEARCH 4420XL est une technologie intégrée de gravure/cendres polyvalente et fiable qui offre une gravure et un cendrage de haute performance. Il offre une configuration facile et l'optimisation des processus, et est un choix idéal pour les circuits complexes et hautement intégrés d'aujourd'hui.